《炬丰科技-半导体工艺》自选择性化学镀

自选择性无电电镀是制造一维纳米材料的新方法,尤其在硅纳米线阵列和贵金属树突的生产中。此技术基于传统无电镀,通过控制过程和后处理实现选择性,有望用于新型纳米器件的开发,特别是在半导体领域。
摘要由CSDN通过智能技术生成

书籍:《炬丰科技-半导体工艺》

文章:自选择性化学镀

编号:JFKJ-21-719

作者:炬丰科技

关键词:自选择性无电镀;纳米线;树突

摘要

 自选择性无电电镀是一种生产功能性一维纳米材料的新方法。该技术基于传统的无静电电镀,利用基底和表面金属沉积来产生所需的功能纳米结构。综述了过去6年的进展和进展,包括通过自选择性无电电镀实现的硅纳米线阵列和伴随的贵金属树突的生产、可能的生长机制和未来的挑战。本文讨论了这种方法对未来发展新颖和独特的纳米器件的作用,这是用传统的制造技术无法实现的。有趣的最新结果表明,该产品的选择性是可以通过控制无静电电镀过程和后表面处理来获得的。

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