Zemax 中的几何图像分析

在 Zemax OpticStudio 中，几何图像分析是研究由几何光学控制的光学系统行为的有效方法。本博客文章介绍了如何利用几何图像分析功能创建横截面图并获取扩展光源的光学性能数据。几何图像分析工具还可以检查几何光学有效描述的系统中的点或扩展源对象。

几何图像分析是评估任何给定表面上像差光束的图像质量的宝贵工具。它允许将对象建模为点源（通过将 Field Size 设置为零）或扩展源（具有非零 Field Size）。该工具还提供了一些选项，用于定义用于捕获感兴趣表面上图像的探测器的大小和像素分辨率。

这里我们以 Zemax 安装文件夹中的 28 度视场透镜的双高斯为例。镜头结构如下图所示：

 

几何图像分析设置可以在以下路径找到：分析 - 扩展场景分析 - 几何图像分析。下图显示了 0.1 毫米小图像尺度的 0 度、10 度和 14 度输入。

 

0 度

 

 

10 度

 

14度

 

使用“视场”设置，图像文件将以定义的视场位置为中心。这样可以将诸如条形图之类的小目标移动到视场中的任意位置。然后，生成的图像将以该视场位置的主射线坐标为中心。

如果选择“显示”时的横截面，则沿中心行的强度 X 或 Y 横截面显示如下：

 

0 度

 

10 度

 

14度

 

操作数 IMAE 显示图像分析数据。此操作数返回由几何图像分析功能计算出的分数效率、质心或 RMS 数据，使用当前默认设置。要使用此操作数，首先根据需要定义几何图像分析功能上的设置，然后按设置框上的“保存”。操作数 IMAE 将返回由图像分析功能计算出的所需数据。

下面的评价函数展示了如何使用 IMAE 操作数进行图像分析，并返回光学系统效率的估计值。这些估计值是通过将许多光线发射到入射光瞳中得出的；计算穿过所有表面孔径到达任何表面的光线的比例。

 

如果我们将区域尺寸放大到1，将图像尺寸放大到3，以Grid为原始文件输入，图像结果如下所示。

 

X 方向的横截面视图如下所示：

 

Y 方向的横截面视图如下所示：

 

总之，几何图像分析在 Zemax 序列模式下提供了一个快速工具来展示图像平面的存在，具有整体定义的场、光圈和波长。与非序列模式相比，它在“文件”选项卡中提供了有限的光源形状，但提供了快速的整体光分布显示，而无需转换为非序列模式。