高性能EDA CAD算法 （OPC LRC DRC Hierarchy GDSII OASIS LAYOUT）

最新推荐文章于 2024-07-22 19:30:16 发布
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分类专栏： 原创
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本文链接：https://blog.csdn.net/nestingChina/article/details/87871523
版权
本文介绍了一套高性能的EDA CAD算法，涉及GDS/OASIS文件解析、层次结构优化、光刻规则检查（LRC）、OPC校正和图形处理技术，如曲线插值、布尔运算、自动排样等。算法在LRC和OPC方面表现出色，提供显著的计算效率提升，并支持多种图形格式和压缩编码。
摘要由CSDN通过智能技术生成

功能/应用列表

 

(一) 通用CAD

  • Bezier曲线插值/拟合
  • 均匀/非均匀B-Spline曲线插值/拟合
  • 复杂轮廓的多段曲线自动拟合
  • 高效曲线绘制/显示, 反走样算法.
  • 多边形布尔运算(基于开源库),以及特殊应用场合下的性能加速

        包括但不限于 交/并/异或/offset/梯形化/Voronoi骨架提取等

https://i-blog.csdnimg.cn/blog_migrate/cc932f13f4b4cf33b979efef80de3e9a.png​

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