Dispelix创始人阐释,蚀刻光波导比纳米压印好在哪

Dispelix CEO Anti Sunnari在AWE 2022上阐述,蚀刻光波导相比纳米压印工艺具有可靠性更强、视场角更大、设计自由度更高等优势。蚀刻工艺利用半导体制造技术,可实现更稳定的光学性能和更高的产量,尤其适合对温度、湿度和冲击有高要求的AR眼镜应用。
摘要由CSDN通过智能技术生成

作为关键AR光学技术之一,光波导模组对于AR眼镜的轻量化、视场角、清晰度等方面有着重要影响。目前,市面上各类光波导公司掌握不同类型的光波导架构设计,而且制造工艺也各有不同。比如Magic Leap、HoloLens就采用纳米压印工艺来制造AR光波导。

Dispelix联合创始人兼CEO Anti Sunnari

近期在AWE 2022期间,芬兰AR光波导厂商Dispelix联合创始人兼CEO Anti Sunnari在主题演讲中表示市面上的光波导制造工艺通常可分为五大类:

1)纳米压印(微软HoloLens、Magic Leap、WaveOptics、Vuzix);2)直接蚀刻(Dispelix、应用材料);3)切割、涂层和堆叠(Oorym、Lumus);4)非接触式光学复制/激光干涉法(DigiLens、ImagineOptix);5)注塑成型(LetinAR、tooz、Optinvent、爱普生)。

光波导制造工艺5大分类

其中,Dispelix采用蚀刻的方式去制造AR光波导,那么相比于纳米压印等技术,蚀刻光波导制造工艺又有哪些优势呢?

两种技术路径

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