先进半导体材料与器件Chapter3

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Chapter3 异质结双极晶体管(HBT)

作者: Saint
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一.HBT的基本结构
二.HBT的增益
三. HBT的频率特性
四. 先进的HBT

一.HBT的基本结构
异质结双极晶体管- Heterojunction bipolar transistor(HBT):指晶体管中的一个或两个pn结由不同的半导体材料所构成。

它是一种双极晶体管 存在至少一个异质结;如果两个PN结都是由异质结组成,那么这种晶体管也称为双异质结双极晶体管(DHBT)。

同质双极型晶体管
双极型晶体管又称三极管。电路表示符号:BJT。根据功率的不同具有不同的外形结构。
在这里插入图片描述基本结构

由两个掺杂浓度不同且背靠背排列的PN结组成,根据排列方式的不同可分为NPN型和PNP型两种,每个PN结所对应区域分别称为发射区、基区和集电区。
在这里插入图片描述BJT是非线性元件,其工作特性与其工作模式有关: 当EB结和CB结均加正偏时,BJT处于饱和模式; 当EB结加零偏或反偏、CB结加反偏时,BJT处于截止模式。
在这里插入图片描述
当EB结加正偏, CB结加反偏时,BJT处于放大模式; BJT主要用途是对变化的电流、电压信号进行放大,饱和模式和截止模式主要用于数字电路中。

在这里插入图片描述异质结双极晶体管(HBT)
——宽带隙发射区
在这里插入图片描述突变结
特点:
在发射结处,导带出现势垒,阻碍电子从发射区向基区的注入,这就降低了发射结注入效应。在高速工作还是有好处,越过势垒注入到基区的电子速度较大。
在这里插入图片描述缓变结
特点:
在异质结处,带边的具体情况依赖于掺杂的分布和组分的分别。能减小导带势垒,避免在导带出现尖峰。
在这里插入图片描述异质结双极晶体管(HBT)
——缓变基区
高的空穴电导率保证了价带足够平坦,带隙的偏移建立了大小为Δ Eg/Wb的导带能量梯度。 准电场漂移场增大2~5倍
在这里插入图片描述异质结双极晶体管(HBT)
——宽带隙集电区
阻止空穴从基区向集电区注入,减小饱和储藏电荷密度,加快偏压在饱和区时器件的关闭速度。增加了击穿电压。
在这里插入图片描述对于拥有宽带隙发射区和集电区的双异质结晶体管(DHBT),避免在集电结处形成导带势垒是很关键的。

二. HBT的增益

1.理想HBT的增益
2.考虑界面复合后HBT的增益
3.HBT增益与温度的关系

1.理想HBT的增益
假设HBT的发射区宽禁带材料是半导体1,基区窄禁带材料是半导体2,那么以Npn管为例,当基区输运系数τb接近1时,共发射极电流增益可以表示为:
在这里插入图片描述
其中发射结注入效率可求得,推出共发射极电流增益,发射区和基区的少数载流子浓度。
在这里插入图片描述
与同掺杂分布的同质结晶体管BJT相比,β之比:
在这里插入图片描述
2.基区高掺杂
基区不容易穿通
基区电阻降低,fmax增加
基区导电调制不明显,电流增益下降也不明显
基区电荷对集电结电压不敏感,Early电压明显增大
发射区低掺杂 发射结耗尽层电容减小,fT提高

3.HBT增益与温度的关系
环境温度的改变:器件内部物理参数;
自热效应:功耗引起自升温
在大集电极电流下,电流增益随温度的增加而减小,且电流增益的温度系数为负

三. HBT的频率特性

1.最大振荡频率
2.开关时间

在这里插入图片描述在这里插入图片描述
四. 先进的HBT

1.Si-SiGe HBT
2.III-V族化合物HBT

硅基HBT
在这里插入图片描述•可用成熟的Si工艺;
•可提高改变Ge的含量来调制SiGe基区的禁带宽度和加速场。
MBE、LRP、UHV/CVD.

SiGe HBT与全Si晶体管相比较
1.fT较高,特别是在基区Ge含量缓变的情况下。
2.对于给定的电流增益,HBT的基区掺杂浓度较高,这可减少基区电阻,从而提高fmax,降低Johnson噪声,减小电流集边效应
3.厄利(Early)电压较高
4.基区穿通电压较高

在这里插入图片描述2.III-V族化合物HBT器件
AlGaAs/GaAs HBT 典型的器件截面和层结构图
在这里插入图片描述III-V族化合物HBT器件:AlGaAs/GaAs HBT
晶格匹配很好
材料外延技术成熟
带隙差异可以很大
电子迁移率很高
速度过冲效应明显
衬底的半绝缘性好
有利于光电集成

HBT工艺发展方向:
1.制备自对准结构。2.选择性湿法腐蚀。

InGaAs/InPHBT
1.InGaAs电子迁移率更高
2.InPHBT的衬底导热性好
3.有利于光纤通讯应用的光电集成

在这里插入图片描述在这里插入图片描述HBT的新发展
双异质结双极晶体管(DHBT )
GaAsSb基区的InPHBT
MHBT
宽禁带半导体SiC、GaN基HBT

宽禁带半导体GaN基HBT
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HBT/HEMT集成电路
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### 回答1: 《半导体物理与器件》第3版是一本介绍半导体物理与器件的权威教材,由清华大学电子工程系研究生院吕旭阳教授主编,于2010年出版。 本书内容包含半导体的物理基础、材料的物理特性、常见器件的结构原理和应用等方面。作者以简明易懂的语言进行讲解,减少了专业术语和公式的使用,让读者更容易理解和掌握所学知识。 另外,本书也加入了一些最新的研究成果和技术进展,如SiC及GaN等新型半导体的物理特性和器件制造技术,以及新一代高性能半导体器件如IGBT和MOSFET等的发展趋势和应用。 《半导体物理与器件》第3版是一本经典的半导体教材,适合电子信息类专业的本科生和研究生阅读,也适合从事半导体物理和器件研究的学者和工程师参考。 ### 回答2: 《半导体物理与器件第3版》是一本关于半导体物理原理和器件设计的教材,由韩国著名学者Kangho Lee编写,于2010年出版。 这本教材的内容涵盖了半导体物理学的各个方面,从基础概念和物理原理入手,系统地介绍了晶体结构和性质、能带理论、载流子输运、PN结、MOSFET、BJT等半导体器件的原理和性能。此外,本书还特别讲解了一些前沿的技术和新型器件,如纳米器件、量子点器件、半绝缘体场效应管等。 该书不仅详细介绍了半导体物理学和器件设计的理论基础,而且还有很多实践应用和工程技巧的讲解。同时,书中还包含了许多例题和练习题,帮助学生深入理解课程内容并通过技能测试。 总之,《半导体物理与器件第3版》是一本综合性的半导体物理和器件设计教材,适合物理、电子、通信、计算机等相关专业的学生和研究人员使用。本书在半导体物理学和器件设计领域具有较高的权威性和实用性,是值得一读的经典之作。

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