刚刚入坑模拟IC不久,随笔记录一下。小升初水平,设计过程中存也提出了一些疑惑希望能够互相指点。
1.设计参数
低频增益大于100dB,GBW≥1MHz,相位裕度大于60°,IVDD<2uA,CL=1pF,VDD=1.8V
2.电路结构
![](https://img-blog.csdnimg.cn/11df5fba41524574a0b01850c6eeaa83.png#pic_center)
电路的增益:
A
v
≈
g
m
1
(
r
o
2
∣
∣
r
o
4
)
g
m
6
(
r
o
5
∣
∣
r
o
6
)
\ A_v ≈ g_{m1}(r_{o2}||r_{o4})g_{m6}(r_{o5}||r_{o6})
Av≈gm1(ro2∣∣ro4)gm6(ro5∣∣ro6)
运放带宽(主极点):
f
d
=
B
W
=
1
2
π
C
c
(
1
+
A
v
2
)
(
r
o
2
∣
∣
r
o
4
)
\ f_{d}=BW=\frac{1}{2 \pi C_c(1+A_{v2})(r_{o2}||r_{o4})}
fd=BW=2πCc(1+Av2)(ro2∣∣ro4)1
增益带宽积:
G
B
W
=
B
W
×
∣
A
v
∣
=
g
m
1
2
π
C
c
\ GBW=BW\times |A_{v}|=\frac{g_{m1}}{2 \pi C_c}
GBW=BW×∣Av∣=2πCcgm1
次主极点fnd与CL和运放输出电阻有关,在fnd处Cc近似短路,CL×1.3是因为考虑寄生电容:
f
n
d
=
1
2
π
×
1.3
C
L
1
g
m
6
=
g
m
6
2
π
×
1.3
C
L
\ f_{nd}=\frac{1}{2\pi ×1.3C_L\frac{1}{g_{m6}}} =\frac{g_{m6}}{2\pi ×1.3C_L}
fnd=2π×1.3CLgm611=2π×1.3CLgm6
3.gm/id法设计步骤
选择 L:根据要求的增益选择适合的 。
计算 gm。
选取 gm/id:一般选取 gm/id=10,根据要求适当调整。
计算 id 。
选择 W:仿真得到 id/W~ gm/id 的曲线得到 id/W~ 的值,然后得到 W。
4.运放第一级设计
第一级运放PMOS作为放大管,NMOS作为电流管。
4.1.选择L
晶体管的本征增益为gmro,与L相关。
设计要求低频增益大于100dB,平分到每一级就要大于50dB。转换为放大倍数,并留出一定的余量得到每一级放大管本征增益self_gain=gmro≥800。
以PMOS为例,将其W、L、Vds、Vgs设置为变量。
仿真输出的横轴设置为gm/id,纵轴设置为self_gain。也就是PMOS管的增益随gm/id变化的趋势。然后对L从5um~15um扫描,然后选取合适的L。
取放大管gm/id=16,电流管gm/id=10,然后得到放大管PMOS的L=12um,电流管NMOS的L=15um。
4.2.选择gm/id
根据经验gm/id一般选择10 ,为什么是10?
在图4.3是(gm/id)fT随过驱动电压的变化趋势,由图可以得到一个最佳的取值范围,在这个范围内gm/id的取值大约就在10左右。这样就可以先仿真(gm/id)fT随vdsat=vgs-vth的变化,得到vgs-vth的最佳范围。然后仿真gm/id随vgs-vth的变化,在这个最佳范围内得到gm/id的值。
图4.4中上面的曲线为(gm/id)fT随vgs-vth的变化,下面的曲线为gm/id随vgs-vth的变化。因为仿真时发现直接用参数fT无法得出仿真结果,于是使用ωT=gm/Cgs代替。对于不同工艺的器件gm/id的选取也会不同,选取gm/id越大晶体管的本征增益gmro越大,同时频率特性fT就越小,因此要根据需求选择合适的值。
考虑到噪声因素的影响,当MOS管作为电流源时,gm越小输出电流噪声越小,因此取gm/id=10;当MOS管作为放大管时,gm越大输入电压噪声越小,因此取gm/id=16。
于是MOS管M1,2的gm/id=16,M3,的gm/id=10。
4.3.计算gm1,2
电流要满足IVDD<2uA,将第一级电流定为0.8uA,第二级定为1uA。
晶体管gm/id已经确定,因此可以计算第一级放大器晶体管的gm
g
m
1
,
2
=
16
I
D
1
,
2
=
6.4
u
S
g_{m1,2}=16I_{D1,2}=6.4uS
gm1,2=16ID1,2=6.4uS
增益带宽积留出一定裕量:
G
B
W
=
B
W
×
∣
A
v
∣
=
g
m
1
2
π
C
c
=
1.3
M
H
z
GBW=BW\times |A_{v}|=\frac{g_{m1}}{2 \pi C_c}=1.3MHz
GBW=BW×∣Av∣=2πCcgm1=1.3MHz
于是可以得到Cc的值:
C
c
≈
0.8
p
F
C_{c}≈0.8pF
Cc≈0.8pF
4.4.选择W
当gm/id确定之后,MOS管的电流密度也就随之确定。也就是说给定一个gm/id,ID/W是一个定值,每个MOS管的电流也已知,就可以将W计算出来。
图4.5是PMOS电流密度仿真,根据仿真结果可以计算M1、M2的W。
W
1
,
2
=
I
D
1
,
2
0.024
≈
17
u
m
\ W_{1,2}=\frac{I_{D1,2}}{0.024}≈17um
W1,2=0.024ID1,2≈17um
图4.6是NMOS电流密度仿真,根据仿真结果可以计算M3、M4的W。
W
3
,
4
=
I
D
1
,
2
0.219
≈
1.8
u
m
\ W_{3,4}=\frac{I_{D1,2}}{0.219}≈1.8um
W3,4=0.219ID1,2≈1.8um
![](https://img-blog.csdnimg.cn/4432a428574a46068090d5003be7253f.bmp#pic_center)
4.5.第一级仿真
图4.7为直流仿真结果,VDD=1.8V,vb=1.2V,放大管的偏置电压vp=vn=800mV。
![](https://img-blog.csdnimg.cn/c7b3f4c404e8427cae5ad570957bdc36.bmp#pic_center)
5.运放第二级设计
第二级放大器NMOS晶体管M6为放大管,PMOS晶体管M5为电流管。
5.1.确定放大管M6参数
M4的漏极电压为M6的栅极提供偏置,因此Vgs6=Vds4=650mV。通过仿真得到gm/id在Vgs6=650mV时的值。仿真结果如图5.1,L从1u–20u的变化对结果的影响不大,Vgs6=650mV时gm/id在10左右。
前面已经确定ID6=1uA,计算得到gm6=10×ID6=10uS.
与第一级一样要满足放大管本征增益self_gain=gmro≥800,在Vgs6=650mV下,仿真得到满足要求的L。根据图5.2的仿真结果选择晶体管M6的L=9um。
![](https://img-blog.csdnimg.cn/5773c872320743cfaceb7fc735e8b28a.bmp#pic_center)
图5.3电流密度仿真得到gm/id=10时的W6。
W
6
=
I
D
6
0.366
≈
2.7
u
m
\ W_{6}=\frac{I_{D6}}{0.366}≈2.7um
W6=0.366ID6≈2.7um
5.2.确定电流管M5参数
M5和M7栅压相同都是1.2V,VDD=1.8V,所以Vgs5=600mV。和M6一样,在这个Vgs5下仿真得到M5的参数:
g
m
I
D
=
15
L
5
=
7
u
m
W
5
=
6
u
m
\begin{aligned} \frac{g_{m}}{I_{D}}&=15 \\[2ex] L_{5}\ &=7um \\[2ex] W_{5}&=6um \end{aligned}
IDgmL5 W5=15=7um=6um
6.运放仿真与分析
6.1.dc仿真
![](https://img-blog.csdnimg.cn/4bd9fba58d0146c9be08368f36fd8160.png#pic_center)
6.2.ac仿真
![](https://img-blog.csdnimg.cn/47277fe346f945d9882aaca3ff979c2f.png#pic_center)
![](https://img-blog.csdnimg.cn/fe2b3b29a3a54a84a1f11b4f3f49ebd0.bmp#pic_center)
从仿真结果来看,相位裕度足足9°之多。不能说根本不能用吧,也只能说完全不稳定。这是因为设计过程中完全没有考虑零极点位置。
6.3.零极点分析
从图6.2可以大致确定主极点fn≈7Hz,次主极点fnd≈1MHz。
先计算主极点:
f
d
=
1
2
π
(
r
o
2
/
/
r
o
4
)
g
m
6
(
r
o
5
/
/
r
o
6
)
C
c
≈
6.9
H
z
f_{d}=\frac{1}{2\pi (r_{o2}//r_{o4})g_{m6}(r_{o5}//r_{o6})C_{c}}≈6.9Hz
fd=2π(ro2//ro4)gm6(ro5//ro6)Cc1≈6.9Hz
计算次主极点(Cm是仿真提取得到的晶体管寄生电容):
f
n
d
=
1
2
π
1
g
m
6
(
C
L
+
C
m
)
≈
1
M
H
z
f_{nd}=\frac{1}{2\pi \frac{1}{g_{m6}}(C_{L}+C_{m})}≈1MHz
fnd=2πgm61(CL+Cm)1≈1MHz
计算零点:
f
z
=
g
m
6
2
π
C
c
≈
1.5
M
H
z
f_{z}=\frac{g_{m6}}{2\pi C_{c}}≈1.5MHz
fz=2πCcgm6≈1.5MHz
极点计算结果与仿真得到的相差不大。可以发现在GBW附近不光有极点fnd,还有零点fz,最终导致相位恶化。可以按照图6.1给电容Cc串联一个电阻Rc来改变零点位置,从而消除零点影响。图6.1中电阻为0Ω所以没有起到效果。那这个电阻应该取多大?
串联电阻后的零点计算:
f
z
2
=
1
2
π
C
c
1
1
g
m
6
−
R
c
f_{z2}=\frac{1}{2\pi C_{c}}\frac{1}{\frac{1}{g_{m6}}-R_{c}}
fz2=2πCc1gm61−Rc1
如果Rc>1/gm6,fz2<0零点位于左半面.这时选择合适的Rc使得|fz2|=fnd,负零点fz2就会抵消掉极点fnd的相位变化。
说干就干,计算Rc:
f
z
2
=
1
2
π
C
c
1
1
g
m
6
−
R
c
=
−
f
n
d
R
c
=
300
K
Ω
\begin{aligned} f_{z2}=\frac{1}{2\pi C_{c}}&\frac{1}{\frac{1}{g_{m6}}-R_{c}}=- f_{nd} \\[2.5ex] R_{c}=& 300KΩ \end{aligned}
fz2=2πCc1Rc=gm61−Rc1=−fnd300KΩ
将图6.1的电阻改为300KΩ后再进行ac仿真。图6.3为最后的仿真结果,可以看到电容Cc串联电阻后相位裕度来到了69°,GBW≈1.3MHz,低频增益为105dB,都满足设计要求。
6.4.PSRR仿真
电源抑制比:
P
S
R
R
=
A
V
∣
v
d
d
=
0
A
D
D
∣
v
i
n
=
0
PSRR=\frac{A_V|_{v_{dd}=0}}{A_{DD}|_{v_{in}=0}}
PSRR=ADD∣vin=0AV∣vdd=0
式中vdd是电源上的交流小信号,vin是输入端的交流小信号。
按照图6.4将运算放大器连接成单位增益负反馈结构,即反相输入端和输出端短接。将差分输入信号设为 0,在电源电压源添加1V的交流分量vdd,这时的小信号输出可以表示为:
A
V
(
v
p
−
v
o
u
t
)
+
A
D
D
⋅
v
d
d
=
v
o
u
t
v
o
u
t
v
d
d
≈
A
D
D
A
V
=
1
P
S
R
R
20
l
g
P
S
R
R
=
−
20
l
g
v
o
u
t
v
d
d
\begin{aligned} A_V(v_p-&v_{out})+A_{DD}·v_{dd}=v_{out} \\[2.5ex] \frac{v_{out}}{v_{dd}}&≈\frac{A_{DD}}{A_{V}}=\frac{1}{PSRR} \\[2.5ex] 20lg_{}&{PSRR}=-20lg_{}{\frac{v_{out}}{v_{dd}}} \end{aligned}
AV(vp−vddvout20lgvout)+ADD⋅vdd=vout≈AVADD=PSRR1PSRR=−20lgvddvout
得到输出端的增益曲线取负数就是PSRR特性曲线。
6.5.CMRR仿真
共模抑制比(Common Mode Reject Ratio,CMRR)的定义为运算放大器差分输入增益与共模增益的比值:
C
M
R
R
=
A
V
A
C
M
CMRR=\frac{A_V}{A_{CM}}
CMRR=ACMAV
![](https://img-blog.csdnimg.cn/6ddc85076ab64599beb9adb927068d20.png#pic_center)
按照图6.6将运算放大器连接成单位增益负反馈结构。在运算放大器的同相和反相输入端加上相同的小信号电压vcm,这时的小信号输出可以表示为:
A
C
M
v
c
m
+
A
V
[
v
c
m
−
(
v
c
m
+
v
o
u
t
)
]
=
v
o
u
t
v
o
u
t
v
c
m
≈
A
C
M
A
V
=
1
C
M
R
R
\begin{aligned} A_{CM}v_{cm}+A_V[v_{cm}-&(v_{cm}+v_{out})]=v_{out} \\[2.5ex] \frac{v_{out}}{v_{cm}}≈\frac{A_{CM}}{A_{V}}&=\frac{1}{CMRR} \\[2.5ex] \end{aligned}
ACMvcm+AV[vcm−vcmvout≈AVACM(vcm+vout)]=vout=CMRR1
得到输出端的增益曲线取负数就是CMRR特性曲线。