1. gm/id方法设计二级运算放大器

1.设计参数

  低频增益大于100dB,GBW≥1MHz,相位裕度大于60°,IVDD<3uA,CL=1pF,VDD=1.8V

2.电路结构与参数分析

2.1.电路结构

图2.1 两级运放电路图

  电路的增益:
  A v ≈ g m 1 ( r o 2 ∣ ∣ r o 4 ) g m 6 ( r o 5 ∣ ∣ r o 6 ) \ A_v ≈ g_{m1}(r_{o2}||r_{o4})g_{m6}(r_{o5}||r_{o6})  Avgm1(ro2∣∣ro4)gm6(ro5∣∣ro6)

  运放带宽(主极点):
  f d = B W = 1 2 π C C ( 1 + A v 2 ) ( r o 2 ∣ ∣ r o 4 ) \ f_{d}=BW=\frac{1}{2 \pi C_C(1+A_{v2})(r_{o2}||r_{o4})}  fd=BW=2πCC1+Av2(ro2∣∣ro4)1

  增益带宽积:
  G B W = B W × ∣ A v ∣ = g m 1 2 π C C \ GBW=BW\times |A_{v}|=\frac{g_{m1}}{2 \pi C_C}  GBW=BW×Av=2πCCgm1

  次极点fnd与CL和运放输出电阻有关,在fnd处CC近似短路:
  f n d = 1 2 π C L 1 g m 6 = g m 6 2 π C L \ f_{nd}=\frac{1}{2\pi C_L\frac{1}{g_{m6}}} =\frac{g_{m6}}{2\pi C_L}  fnd=2πCLgm611=2πCLgm6

  密勒电容CC还会引入正零点:
  f z = g m 6 2 π C C \ f_{z}=\frac{g_{m6}}{2\pi C_C}  fz=2πCCgm6

  两个极点分别会产生90度相位下降。而正零点不仅会造成90度相位下降,还会使产生每十倍频+20dB的增益。因此,零极点位置不合适会导致相位裕度恶化,放大器不稳定。

2.1.频率响应分析

  首先看一个最简单的单极点系统,图2.2毫无疑问是无条件稳定的。极点位置为10Hz,增益100dB,GBW=1MHz。

图2.2 单极点系统

  如果在单极点系统加入一个正零点呢?图2.3(a)正零点位置为0.5MHz,图2.3(b)正零点位置为5MHz。正零点不仅会造成90度相位下降,还会使产生每十倍频+20dB的增益。图2.3(a)由于正零点的存在,增益降到0dB前,相位已经变化了180度,系统一定不稳定。解决方法:如图2.3(b)可以将正零点远大于GBW,或者通过一些手段使其变成负零点。

图2.3 一极一零系统

  二级运放有两个极点,一个零点,设置主极点fd=10Hz,次极点fnd=3MHz,零点fz=5MHz,得到图2.4系统。GBW=990KHz,相位裕度=60°。

图2.4 二级运放系统

3.gm/ID法设计步骤

  当晶体管的L确定之后,后面参数均不会随着W改变:gm/ID、特征频率gm/Cgg、本征增益gmro、电流密度ID/W、过驱动电压VO
  运放设计就是设计晶体管参数VGS、VDS、W、L。VDS操作空间不大,于是就剩下VGS、W、L。而VGS又与gm和ID相关:
g m = 2 I D V G S − V T H g m I D = 2 V G S − V T H \begin{aligned} g_{m}=\frac{2I_{D}}{V_{GS}-V_{TH}} \\[2.8ex] \frac{g_{m}}{I_{D}}=\frac{2}{V_{GS}-V_{TH}} \end{aligned} gm=VGSVTH2IDIDgm=VGSVTH2  可见,确定了gm/id,就可以得到VGS。于是设计步骤大致为:根据频率特性确定gm;根据功耗和摆率确定id;根据增益确定L;当VGS和L都找到之后W也就被唯一确定。
  (1)确定放大管gm
  前面2.1节分析了二级运放频率特性,得到了相位裕度60°的结果,按照之前分析结果列出下面方程:
{ g m 1 2 π C C = G B W f n d = g m 6 2 π C L = 3 G B W f z = g m 6 2 π C C = 5 G B W \left\{ \begin{aligned} &\frac{g_{m1}}{2πC_{C}}=GBW \\[2.5ex] &f_{nd}=\frac{g_{m6}}{2πC_{L}}=3GBW \\[2.5ex] &f_{z}=\frac{g_{m6}}{2πC_{C}}=5GBW \end{aligned} \right. 2πCCgm1=GBWfnd=2πCLgm6=3GBWfz=2πCCgm6=5GBW设计要求GBW为1MHz,这里留出一定裕度,令GBW=1.5MHz。这就是一个三元一次方程,求解得到:
{ g m 1 = 5.6 μ S g m 6 = 28 μ S C C = 0.6 p F \left\{ \begin{aligned} &g_{m1}=5.6μS \\[2.5ex] &g_{m6}=28μS \\[2.5ex] &C_{C}=0.6pF \end{aligned} \right. gm1=5.6μSgm6=28μSCC=0.6pF  (2)确定支路电流
  可以根据摆率大小来分配每一级电流大小。参数指标并没有规定摆率大小,但是IVDD<3μA,暂定第二级约为1.8μA,第一级0.7μA。(根据计算结果gm6=5gm1,流过第二级M6的电流不能太小)
  (3)到这里就可以得到放大管M1、M6的gm/id≈16
  两级电流分配不同,放大管gm/id值也会不同,根据具体指标作出改变。电流管的gm/id值一般小于放大管,当MOS管作为电流源时,gm越小输出电流噪声越小,可以取gm/id=10。
  (4)得到电流管gm
  第一级电流管gm3 =gm4=3.5μS,第二级电流管gm6 =16μS。
  (5)根据增益要求选择L
  (6)选择 W
  仿真得到 ID/W~ gm/id 的曲线得到 ID/W 的值,然后得到 W。其他参数固定后,改变W,并不会影响晶体管本征增益gmro和特征频率fT

4.运放第一级设计

  第一级运放PMOS作为放大管,NMOS作为电流管。按照第3节的步骤来设计,(1)-(4)步找到了放大管gm/id=16,电流管gm/id=10,也确定了每个管子的gm

4.1.选择L

  晶体管的本征增益为gmro,与L相关。
  设计要求低频增益大于100dB,平分到每一级就要大于50dB。转换为放大倍数,并留出一定的余量得到每一级放大管本征增益self_gain=gmro≥800。
  以PMOS为例,将其W、L、Vds、Vgs设置为变量。

图4.1 PMOS参数确定

  仿真输出的横轴设置为gm/id,纵轴设置为self_gain。也就是PMOS管的增益随gm/id变化的趋势。然后对L从5um~15um扫描,然后选取合适的L。
  取放大管gm/id=16,电流管gm/id=10,然后得到放大管PMOS的L=12um,电流管NMOS的L=15um。

图4.2 PMOS增益随gm/id变化

4.2.选择W

   当gm/id和L确定之后,MOS管的电流密度也就随之确定。每个MOS管的电流也已知,就可以将W计算出来。
   图4.3是PMOS电流密度仿真,根据仿真结果可以计算M1、M2的W。
  W 1 , 2 = I D 1 , 2 0.024 ≈ 17 u m \ W_{1,2}=\frac{I_{D1,2}}{0.024}≈17um  W1,2=0.024ID1,217um

图4.3 PMOS电流密度仿真

   图4.4是NMOS电流密度仿真,根据仿真结果可以计算M3、M4的W。
  W 3 , 4 = I D 1 , 2 0.219 ≈ 1.8 u m \ W_{3,4}=\frac{I_{D1,2}}{0.219}≈1.8um  W3,4=0.219ID1,21.8um

图4.4 NMOS电流密度仿真

4.5.第一级仿真

   图4.5为直流仿真结果,VDD=1.8V,放大管的偏置电压vp=vn=800mV。

图4.5 第一级dc仿真
图4.6 第一级ac仿真

5.运放第二级设计

  第二级放大器NMOS晶体管M6为放大管,PMOS晶体管M5为电流管。和第一级一样,先确定L,再确定W。

6.运放仿真与分析

6.1.dc仿真

图6.1 dc仿真结果

6.2.ac仿真

图6.2 ac仿真电路和结果

  从仿真结果来看,低频增益大于100dB,GBW=1.36MHz,相位裕度59°,与之前的分析是基本一致的。

6.3.PSRR仿真

  电源抑制比:
P S R R = A V ∣ v d d = 0 A D D ∣ v i n = 0 PSRR=\frac{A_V|_{v_{dd}=0}}{A_{DD}|_{v_{in}=0}} PSRR=ADDvin=0AVvdd=0

  式中vdd是电源上的交流小信号,vin是输入端的交流小信号。

图6.3 PSRR仿真电路

  按照图6.3将运算放大器连接成单位增益负反馈结构,即反相输入端和输出端短接。将差分输入信号设为 0,在电源电压源添加1V的交流分量vdd,这时的小信号输出可以表示为:
A V ( v p − v o u t ) + A D D ⋅ v d d = v o u t v o u t v d d ≈ A D D A V = 1 P S R R 20 l g P S R R = − 20 l g v o u t v d d \begin{aligned} A_V(v_p-&v_{out})+A_{DD}·v_{dd}=v_{out} \\[2.5ex] \frac{v_{out}}{v_{dd}}&≈\frac{A_{DD}}{A_{V}}=\frac{1}{PSRR} \\[2.5ex] 20lg_{}&{PSRR}=-20lg_{}{\frac{v_{out}}{v_{dd}}} \end{aligned} AV(vpvddvout20lgvout)+ADDvdd=voutAVADD=PSRR1PSRR=20lgvddvout

  得到输出端的增益曲线取负数就是PSRR特性曲线。

图6.4 PSRR仿真结果

6.4.CMRR仿真

  共模抑制比(Common Mode Reject Ratio,CMRR)的定义为运算放大器差分输入增益与共模增益的比值:
C M R R = A V A C M CMRR=\frac{A_V}{A_{CM}} CMRR=ACMAV

图6.5 CMRR仿真电路

  按照图6.5将运算放大器连接成单位增益负反馈结构。在运算放大器的同相和反相输入端加上相同的小信号电压vcm,这时的小信号输出可以表示为:
A C M v c m + A V [ v c m − ( v c m + v o u t ) ] = v o u t v o u t v c m ≈ A C M A V = 1 C M R R \begin{aligned} A_{CM}v_{cm}+A_V[v_{cm}-&(v_{cm}+v_{out})]=v_{out} \\[2.5ex] \frac{v_{out}}{v_{cm}}≈\frac{A_{CM}}{A_{V}}&=\frac{1}{CMRR} \\[2.5ex] \end{aligned} ACMvcm+AV[vcmvcmvoutAVACM(vcm+vout)]=vout=CMRR1

  得到输出端的增益曲线取负数就是CMRR特性曲线。

图6.6 CMRR仿真电结果
gm/id法在深亚微米模拟电路设计中提供了精确的晶体管尺寸优化途径,尤其适用于设计高性能运算放大器(OTA)。该方法利用了深亚微米MOS管的完整SPICE模型,考虑了诸如沟道长度调制(LDM)等物理效应,这有助于在设计中实现高精度和高性能。 参考资源链接:[gm/id法:深亚微米模拟电路设计新策略 - 二级密勒补偿OTA实例](https://wenku.csdn.net/doc/6401ac0dcce7214c316ea75f?spm=1055.2569.3001.10343) 在采用gm/id法对晶体管尺寸进行优化时,首先要确定电路的基本参数和性能指标,例如跨导(gm)、饱和电压(VT)和结电容(Cox)。然后,通过SPICE仿真获得不同尺寸晶体管的这些参数值,并记录下来形成一个设计数据表。这个数据表类似于查表法,但包含更详尽的模型数据,能够更精确地指导设计过程。 在设计OTA时,可以针对所需的频率响应、线性度和稳定性,选取最合适的晶体管尺寸。例如,为了提高放大器的增益,可能需要增加晶体管的宽度W;而为了改善频率响应,则可能需要调整沟道长度L。通过调整这些参数,并使用gm/id法中的比例关系,设计师可以精确地控制OTA的特性。 实践表明,使用gm/id法可以有效避免传统设计方法中的不精确性,特别是在深亚微米尺寸的MOS管设计中。这种方法的优势在于它允许设计师在晶体管尺寸的微小变化中寻找到最佳设计点,这对于提升电路的性能和精度至关重要。为了更好地掌握这一方法,建议参考《gm/id法:深亚微米模拟电路设计新策略 - 二级密勒补偿OTA实例》,该书深入讲解了如何在实际电路设计中应用这一策略,并提供了实例分析来辅助理解和操作。 参考资源链接:[gm/id法:深亚微米模拟电路设计新策略 - 二级密勒补偿OTA实例](https://wenku.csdn.net/doc/6401ac0dcce7214c316ea75f?spm=1055.2569.3001.10343)
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