深紫外光（Deep Ultraviolet, DUV）和极紫外光（Extreme Ultraviolet, EUV）详解-ChatGPT4o作答

**深紫外光（Deep Ultraviolet, DUV）和极紫外光（Extreme Ultraviolet, EUV）**是两种用于光刻技术的光源，它们在半导体制造中的应用对于芯片的微缩和性能提升至关重要。随着半导体工艺不断推进至更小的节点，光刻技术的进步，尤其是光源技术的改进，直接影响着集成电路的制造精度、成本和性能。以下是关于深紫外光（DUV）和极紫外光（EUV）光源的详细讨论：

1. 深紫外光（DUV）

深紫外光指的是波长在200纳米到300纳米范围内的紫外光。深紫外光是传统半导体光刻技术中最常用的光源之一。最常见的深紫外光源是基于氟化氩（ArF）的激光器，它的波长为193纳米，通常用于当前主流的半导体制造工艺（如28纳米、14纳米、10纳米工艺节点）。

1) DUV光刻的工作原理

DUV光刻机使用紫外光通过掩模（mask）照射到涂有光刻胶的硅片表面，形成预定的电路图案。光刻胶中暴露的部分会发生化学变化，通过显影处理后，留下图案。在深紫外光技术中，通常采用的是193纳米波长的激光光源。

2) DUV光刻的优势与挑战

• 优势：

  • 成熟的技术：DUV光刻技