利用侧壁高阻结构调控Micro-LED中电流的横向扩展

本文探讨了Micro-LED显示技术中,通过侧壁高阻结构限制电流横向扩展,以改善GaN基Micro-LED器件性能的问题。研究发现,这种结构能有效抑制空穴输运到侧壁缺陷区域,提高小尺寸Micro-LED的外量子效率和光输出功率,但可能对大尺寸器件的散热造成影响。

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现如今,智能手机、平板、电脑等高分辨率显示产品的快速发展,促使整个行业对高性能显示器的需求不断增加。 在过去的几十年里,主流的显示系统都是基于液晶显示(LCD)和有机发光二极管(OLED)这两种技术,这两种显示技术几乎占据了整个智能显示领域。然而,现阶段对于LCD和OLED这两种显示技术仍存在一些不完善的地方,比如,LCD存在颜色转换效率差、色彩饱和度和对比度低等问题;OLED的亮度以及寿命也有待进一步提升。基于Micro-LED的显示技术在亮度、寿命、分辨率和效率等方面具备优异性,因此Micro-LED的相关产品逐渐走进人们的视野。

在此之前,我司技术团队揭示出随着LED的尺寸逐渐减小,台面刻蚀造成的侧壁缺陷会引起严重的Shockley-Read-HallSRH)非辐射复合,进而影响GaN

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