模拟CMOS集成电路设计中的gm/id设计方法及用Cadence Virtuoso IC617仿真有关参数曲线

前言

本文为我自己的学习笔记,属于Cadence Virtuoso系列的进阶部分,采用的软件版本是Cadence Virtuoso IC617。其他文章请点击上方,看我制作的Cadence Virtuoso专栏内容。

在前面的文章中,记录了使用工艺参数对运放进行设计的过程。一般是先仿真出当前工艺库有关参数,再代入每一个晶体管中进行计算,数据较为复杂,同时计算量庞大。当一个设计中有较多晶体管时,修改其中一项参数就会导致有较多的数据需要被重新计算。同时,在短沟道器件中,MOS的经验公式逐渐失效。所以,引入
gm/id设计方法,能高效和准确地进行设计工作。

原理

放大器中的MOS工作状态

假设器件为N-MOS,要让其正常工作,以下电路拓扑是最简单的。
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在进一步了解其他原理之前,先定义过驱动电压VOV如下。

V O V = V G S − V T N = 2 I D μ n C o x ( W L ) n V_{OV}=V_{GS}-V_{TN}=\sqrt{ {2I_D \over \mu_nC_{ox} ({W\over L})_n}} VOV=VGSVTN=μnCox(LW)n2ID

在MOS用于放大器应用时,常使其工作于饱和区(下图中右侧区域),忽略沟道长度调制效应后,即电流Id仅与过驱动电压有关。
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跨导gm

对于应用于放大器中的MOS器件来说,输入信号为电压,输出信号为电流,所以可以定义一个参量,表示这个器件的电压转换成电流的能力,即跨导gm,可以将其看成是品质因数。

用输出电流除以输入电压,有以下式子。至于为啥系数是2,根据V-I特性公式就能得出了。

g m = 2 I D V O V g_m={2I_D \over V_{OV}} gm=VOV2ID

由这个式子,可以得到下面的曲线。其中的斜率,就是gm。当过驱动电压增加时,输出电流也随之增加。但实际上不成严格的一次线性关系,而带有一定的二次系数。
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gm/id

假如有两只晶体管,他们的参数不一样,我们绘制它们的Vov-ID曲线,得到下图。观察横虚线,对于不同gm值的晶体管,要想达到相同的ID,就需要不同的过驱动电压Vov。同样的,观察竖虚线,在相同的过驱动电压下,有着不同的ID。也就是说,它们有着不同的“效率”。
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现在,引入一个全新的参量:gm/id,它的值和过驱动电压的倒数有关。

g m I D = 2 V O V {g_m \over I_D} ={2 \over V_{OV}} IDgm=VOV2

我们可以从两个角度去理解这个参数。

第一个,将其看成是,为了代替过驱动电压Vov这个参数而引入的。

第二个,单位电流下的gm,即“gm效率”,在投入相同的ID时,当gm效率越高,所得到的gm越多。

那么,有了这个定义,我们应该怎么去合理选择一个晶体管的gm/id值?从下面三个小标题中的内容得知,我们需要通过选择一个晶体管的gm/id大小,来达到增益与带宽的折中(可以看成带宽增益积GBW是个定值),增益大了带宽就小,带宽大了增益就小,同时,也要兼顾噪声的影响。

增益gian

在运放的设计中,增益是我们要考虑的重要参数之一。对于一个固定工艺和固定参数的晶体管来说,当gm/id的值越大时,其能提供的增益也就越大。同时,在相同的工艺下,栅长L越大,增益越大。
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带宽fT

带宽fT也是重要参数之一。在相同的工艺下,当gm/id的值越小时,其带宽越大。同时,在相同的工艺下,栅长L越小,带宽越大。
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噪声Vn

此处只考虑晶体管自身最大的噪声源热噪声,而对和频率f有关的闪烁噪声暂时不考虑。
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针对热噪声,有以下式子。
V n 2 , i n ‾ = 4 k T γ g m V n 2 , o u t ‾ = 4 k T γ g m r o 2 \overline{V_n^2,in}={4kT\gamma \over g_m} \\\quad\\ \overline{V_n^2,out}=4kT\gamma g_m r_o^2 Vn2,in=gm4kTγVn2,out=4kTγgmro2

  • MOS作为放大器,噪声在输入端,设计时要使得gm稍大(gm/id稍大)
  • MOS作为电流镜,噪声在输出端,设计时要使得gm稍小(gm/id稍小)

电流密度

前面铺垫了那么多,其实都是在讲一些基本理论。我们在设计运放时,无非就是设计晶体管的尺寸,即W和L。那么,我们怎样把gm/id的数值映射到尺寸上?

此处引入一个新的概念,电流密度,用id/W代表。意思是,在单位尺寸W下的电流。在不同的gm/id取值下,有着不同的电流密度id/W。同时,晶体管的栅长L也对其有一定的影响。
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到了这一步,我们就可以完整设计出晶体管的尺寸了。在上图中,我们选定了gm/id的数值,同时选定L的数值,在曲线中,我们就可以得出id/W的数值,对应的W数值也就出来了。

计算步骤

使用gm/id进行晶体管的设计,本质上是一种查表法(轮询),计算量不大,确定gm/id数值后,只需要在对应的曲线或表格中查找所需要的数值即可。

开始时,需要从给定的目标参数带宽增益积GBW和所需要的负载电容CL入手,得到gm的数值(一般为输入管)。

建议:CL需要考虑电路本身的寄生参数,所以计算时取1.2倍CL,即设计CL为10pF,仿真时负载电容设计为10pF,但代入GBW公式中CL的值为12pF。

G B W = A V f T = g m 2 π C L GBW=A_Vf_T={ g_m \over 2 \pi C_L } GBW=AVfT=2πCLgm

  1. 得到gm
  2. 带宽和增益折中后,选定gm/id和L,得到id
  3. 在曲线里得到id/W的数值
  4. 得到W
  5. 仿真验证,可跳到2步骤重新进行微调

当所在支路的电流id已知后,可以直接跳到3和4的步骤。

曲线仿真

在上面的理论部分,我们发现电流密度id/W的曲线比较重要,我们需要对晶体管进行仿真得到这个曲线,才能进行上述的设计。同时我们顺便观察一下增益。

N-MOS仿真

原理图

和前面测试V-I特性曲线一致,同时,暂时不考虑体效应,B端直接接地。由于最后面得出的W会非常大,所以需要对晶体管的Multiplier或者Fingers进行设置,将大的晶体管分成小块,将它们并联或者串联,减小寄生参数。这里设置Multiplier为变量。
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仿真设置

打开ADE-L,进行仿真设置。
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对变量赋初值。其中,W对仿真结果稍微有点影响,后期根据实际得出的W,微调后重新仿真。
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设置为dc仿真,变量为vgs。
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先仿真一下,生成各个部分的直流参数。
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仿真参数设置

打开工具里的计算器。
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选择功能面板。
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在查找里搜索,最终找到waveVsWave,用于绘制波形。
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选择上部的os按钮。
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点击原理图中的晶体管。
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在小窗口中选择gmoverid这一项。
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将其复制进波形绘制窗口中的X轴位置。
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同理,将“self_gain”添加进Y轴。此处不需要再次点击晶体管了,只需要在小窗口中的list里直接选择即可。
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部分工艺库没有self_gain,就手动输入gm/gds。代码在下面

OS("/NM0","gm")/OS("/NM0","gds")

点击Apply。
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将生成的公式送回到仿真环境中。
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还需要id的数值,添加进去之后,手动输入除以变量W,就是前面提到的电流密度。

OS("/NM0","id")/VAR("W")

送回到仿真环境中。
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至此,在仿真器中,就有了两个输出波形。
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当然,我们也可以直接用代码生成输出参数。为什么这一段不放在前面写,是为了让我们熟练使用这个计算器,以后做其他仿真的时候,计算器这个工具是必须要会用的。
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当熟练之后,可以直接在输出设置里添加以下代码。注意,此处晶体管名字是NM0,如果是其他名字,记得修改代码中对应部分。

waveVsWave(?x OS("/NM0" "gmoverid") ?y OS("/NM0" "self_gain"))
waveVsWave(?x OS("/NM0" "gmoverid") ?y (OS("/NM0" "id") / VAR("W")))

另外,我们也可以扫描出过驱动电压Vov和沟道长度调制系数 λ,可以直接使用以下代码。在一些文献中也提到用VGS参数,在最后一行也放出来了。

waveVsWave(?x OS("/NM0" "gmoverid") ?y (OS("/NM0" "vgs") - OS("/NM0" "vth")))
waveVsWave(?x OS("/NM0" "gmoverid") ?y (OS("/NM0" "gds") / OS("/NM0" "id")))
waveVsWave(?x OS("/NM0" "gmoverid") ?y OS("/NM0" "vgs"))

参数扫描

设置参数扫描
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将栅长L从200n扫描至2200n(其实可以不用那么多,1000n就可以了,一般的设计用不到那么大的L)。
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仿真结果

点击仿真后,生成两组曲线。左边是id/W,右边是gain。
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右键单击id/W的Y轴,将其改成对数显示。
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出来的曲线就更直观了。
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在设计的时候,添加一个Marker,就能得出某个gm/id下对应的id/W和gain数值。
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保存结果

我们可以选择保存结果,下次就不用再进行仿真设置。
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修改名字后,点击OK确定。
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下次打开仿真器时,直接加载即可。
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选择上次保存的仿真设置。
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P-MOS仿真

原理图

设计原理图,对于P管,暂时不考虑体效应,B端直接接VDD。
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仿真设置

和N管一样,设置变量初值,设置dc仿真,最后设置输出。

附上输出参量的两个代码。注意,id/W的结果是负值,所以加了abs绝对值函数。

waveVsWave(?x OS("/PM0" "gmoverid") ?y OS("/PM0" "self_gain"))
waveVsWave(?x OS("/PM0" "gmoverid") ?y abs(OS("/PM0" "id") / VAR("W")))

还有三个参数,注意其中的abs绝对值函数

waveVsWave(?x OS("/PM0" "gmoverid") ?y (OS("/PM0" "vgs") - OS("/PM0" "vth")))
waveVsWave(?x OS("/PM0" "gmoverid") ?y abs((OS("/PM0" "gds") / OS("/PM0" "id"))))
waveVsWave(?x OS("/PM0" "gmoverid") ?y OS("/PM0" "vgs"))

设置好的仿真器,可以和自己的对照一下。
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仿真结果

设置好参数扫描后,得到了仿真结果,再设置id/W曲线的Y轴为log坐标。
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