微纳加工技术_湿法腐蚀与干法刻蚀

湿法腐蚀与干法刻蚀

刻蚀的定义

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刻蚀的分类

我们希望的方式是完全各向异性;
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湿法腐蚀

一般是各向同性的,但特定情况下,也可以各项异性,举例如下:
KOH在硅上的腐蚀:(100)方向的腐蚀速度是(111)面的一百倍;利用此,可以加工完美的三角形断面;
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干法刻蚀

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干法刻蚀设备

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电容耦合等离子体

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刻蚀示意图:反应生成物会附着在侧壁,从而保护侧壁;
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常用的刻蚀设备:

电感耦合等离子体

用电感耦合产生高密度的等离子体(而不是用电容耦合),可以把鞘层轰击电压与等离子体密度解耦合,可以单独的提高等离子体密度,可以单独的调节电压;

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重要刻蚀参数

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刻蚀速率的影响因子

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两种方法的对比

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刻蚀考虑要素

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总结:

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