湿法腐蚀与干法刻蚀 文章目录 湿法腐蚀与干法刻蚀刻蚀的定义刻蚀的分类湿法腐蚀干法刻蚀干法刻蚀设备电容耦合等离子体电感耦合等离子体 重要刻蚀参数刻蚀速率的影响因子两种方法的对比刻蚀考虑要素总结: 刻蚀的定义 刻蚀的分类 我们希望的方式是完全各向异性; 湿法腐蚀 一般是各向同性的,但特定情况下,也可以各项异性,举例如下: KOH在硅上的腐蚀:(100)方向的腐蚀速度是(111)面的一百倍;利用此,可以加工完美的三角形断面; 干法刻蚀 干法刻蚀设备 电容耦合等离子体 刻蚀示意图:反应生成物会附着在侧壁,从而保护侧壁; 常用的刻蚀设备: 电感耦合等离子体 用电感耦合产生高密度的等离子体(而不是用电容耦合),可以把鞘层轰击电压与等离子体密度解耦合,可以单独的提高等离子体密度,可以单独的调节电压; 重要刻蚀参数 刻蚀速率的影响因子 两种方法的对比 刻蚀考虑要素 总结: