先进芯片封装初级4

封装材料与技术全解析

一、封装材料概述

封装材料在半导体器件中起着至关重要的作用,包括保护芯片、实现电气绝缘、散热、提供机械支撑以及防潮和防氧化等功能。主要的封装材料有陶瓷材料、固态封模材料(EMC)和液态封止材料(LE)。

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(一)陶瓷材料

  1. 特性与应用

    • 具有优异的热传导与电绝缘性质,其化学组成可调整以实现不同性能,是熔接性封装的主要材料,能为 IC 芯片提供气密性封装保护,可靠性高。在电、热、机械特性等方面表现稳定。

    • 常用于对稳定性要求高的半导体封装,但工艺自动化与薄型化封装能力逊于塑料封装,工艺温度高、成本高、脆性大,在低介电常数与高连线密度封装中需与薄膜封装技术竞争。

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  2. 陶瓷金属化

    • 厚膜法:通过丝网印刷等微流动直写技术在基板上沉积导电浆料,经高温烧结形成导电线路和电极,适用于大部分陶瓷基板。

    • 直接覆铜法(DBC):将铜箔在特定条件下直接键合到陶瓷基片表面,广泛应用于汽车、电力等领域,但存在铜箔厚度大、精度低、气孔等问题。

    • 薄膜法:是微电子制造中金属薄膜沉积的主要方法,符合未来发展方向。

(二)固态封模材料(EMC)

  1. 成分组成

    • 主要成份包括环氧树脂、硬化剂、触媒、填充物、脱模剂、颜料、离子防止剂、添加剂等。.

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  2. 硬化反应与作用

    • 环氧树脂在固化剂作用下发生硬化反应,固化剂活化过氧化物或氮化酸酐促进反应。填料可改善材料性能,如减小热膨胀系数、增加导电导热性等。

(三)液态封止材料(LE)

  1. 特性与发展

    • 常温下呈液状且具流动性,与封模材料不同。过去用于低阶 COB 产品,近年来在新一代封装技术中广泛应用,是微电子封装技术变革的代表性材料。

  2. 分类与应用

    • 主要有液体环氧底灌料(Underfill)和顶部封止(GlobTop)两类。Underfill 用于填充芯片与基板间隙,增强 Flip chip 封装可靠性;GlobTop 用于芯片包覆。

二、封装材料市场与现状

  1. 市场分析

    • 主要原料包括环氧树脂和无机性 Silica 添加剂。IC 封装的小型化及高密度集积化发展促使封装材料不断改进,减少卤素和锑难燃剂使用,促进液态模封材料实用化。

    • 日商在全球模封材料市场占有率高,国内 EMC 大部分依赖进口。液态封止材料主要供应商有 Dexter、Hysol 等公司。

  2. 技术现况

    • 封装材料需具备保护、绝缘、机械强度、特性阻隔等功能,要求配方满足 CTE 差异小、高耐热性、低吸湿性等特性。

三、导线架与材料

  1. 导线架类型与特点

    • 包括 DIP、QFP、SOP、QFN 等封装类型,各有不同结构和适用场景。DIP 操作简便但占用空间大;QFP 引线密度高但焊接难;SOP 适用于小型芯片和高密度封装;QFN 更稳定、高效且成本低。

    • IC 导线架有单体(分离式)、模块等种类,主要类别包括冲压式、蚀刻式等,不同类型适用于不同领域,主要厂商有长科、顺德等。

  2. 导线架材料特性

    • 镍铁合金热膨胀系数与硅、氧化铝相近,强度韧性好;复合金属改善单一金属性能;铜合金具有良好电镀性、加工性与热导性质,常用的有铜 - 铁 - 磷合金等系列。理想的引线框架材料应具备高导电、高强度等特性。

四、导线架制程

  1. 冲压方式

    • 适用于产量大且成本较低的情况,将带材送入冲床连续冲模冲压,但开模制造耗时且昂贵,常用于已确定市场潜力的芯片封装。

    • 冲压模具设计要点包括模具间隙、压料板、冲切加工顺序、母模形式、调整站设计、模具刚性与导引方式等,其需求发展趋势为模具小型化和组件高精度化。

  2. 化学蚀刻制程

    • 较冲压模具制作快且造价低,但产量提升有限且成本高,用于未确定市场潜力的新开发芯片封装。包括光罩设计制作、材料前处理、光阻涂布、双面曝光、显影、蚀刻、去膜清理等流程,各环节需注意相关参数和质量控制。

  3. 电镀制程

    • 片状和卷状导线架在电镀制程中有不同处理方式,脚数多的导线架需经贴布制程固定内引程位置,电镀过程包括超音波溶剂清洗、电解脱脂等多个步骤。

五、导线架市场与现状

  • IC 导线架是铸模基地骨架和散热途径,设计考量引脚配置等因素,封装形式以 QFP 和 SOP 为主,供应厂商以日本厂商为主,国内部分厂商在制程技术和新导线架研发上有进展。

六、基板类型

  1. 功能与特点

    • 应用于 BGA、CSP 与 Flip Chip 等封装元件技术,保护、固定、支撑芯片,增强导热散热性能,实现电气和物理连接、功率分配、信号分配等功能,开发目的是满足高 IO 数需求、获得良好电气性能和可靠性、缩短信号延迟时间。

    • IC 基板和 PCB 基板有区别,封装基板更倾向于精密化与微小化,线宽 / 线距是核心差异。

  2. 分类方式

    • 按封装类型分为 BGA 基板、倒装芯片(FC)IC 基板等;按键合技术分为 Wire Bonding、Flip Chip Bonding 等;按材料属性分为刚性和柔性,材料包括有机树脂、陶瓷、复合材料等,不同类型有各自优缺点。

七、基板材料

  1. 各类基板材料特性

    • 环氧(FR - 4)基板:TG 为 140°C 的环氧积层板应用广泛,具有低吸湿性、高温特性好、与环氧胶亲和、成本低、介电强度高、强度重量比高、防潮、电损耗性能好等优点。

    • BT 基板:由双马来酰亚胺三嗪树脂聚合而成,Tg 点高、耐热性好、可难燃处理、介质常数及散逸因子小、耐化性和抗溶剂性良好、绝缘性佳,可克服 wire bonding 和封装测试中的一些问题。

    • Aramid 纤维基板:耐热性及绝缘性能好,化学性能稳定,抵抗性强,但高温特性与电路板不匹配,机械加工特性不佳。

    • 陶瓷基板:是大功率电力电子电路基础材料,机械应力强、导热率高、绝缘性好、热循环性能好、可刻蚀图形、无污染、使用温度宽、热膨胀系数接近硅,包括 Al2O3 基板、BeO 基板、AlN 基板等,还有 HTCC、LTCC、DBC、DPC、LAM 等技术类型。

八、基板制程与现状

  1. 制造程序与技术难点

    • 制造程序包括载板制备、双面和真空层压板 ABF 放置、金属热压、激光打孔、化学镀铜、干膜层压、电解镀铜、去除干膜、闪光刻蚀及退火等步骤,技术难点涉及压合、微孔制造、图案化和镀铜技术等方面。

  2. 制程对比与市场情况

    • 减成法在铜板上先整板电镀再蚀刻,包括全板镀铜和局部线路镀铜,是常见且成熟的工艺,但存在侧蚀问题;加成法在绝缘基板上曝光后化学沉铜,早期有技术局限,现在有所改进;半加成法需镀二次铜,分为改良型半加成法和半加成法。三种方法在工艺、性能、环境影响等方面各有特点。

    • 全球前十大封装基板厂商多为 PCB 厂或基板厂,市场份额分布不同。中国封装基板市场规模和产量呈一定趋势变化,深南电路封装基板收入也有相应变化。

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