1 二极管
1.1 基础知识点
将p型半导体和N型半导体进行原子级别的结合就形成了PN结,如下图所示,因为接触电场的存在会在PN结上形成固定的压降,硅材料的一般为0.6v,锗材料的一般为0.3~0.5v,锗材料的温度敏感性比较强,稳定性不如硅材料的。
PN结的伏安特性曲线如下图所示,V2为正向导通的电压,V1为反向击穿的电压;
V1点的电压比较稳定(限制电流后可以做稳压),这个点的电压是可以通过不同的工艺做成不同值的。
V2点的电压不是稳定的,不同的电流情况下管压降是不一样的,所以在我们用万用表测量管压降和实际在电路中使用可能是不同的。
1.2 不同类型的二极管
1>小信号开关二极管
以最常用的1N4148为例,参数如下:
伏安特性曲线如下图所示:
2>肖特基二极管
对比肖特基和小信号开关管,各有特点,小信号开关管的体电容比较小,漏电流也非常的小,肖特基的漏电流一般较大,体电容也非常的大。
2 三极管
2.1 三极管的放大
三极管最主要的作用就是具有电流放大的作用,示意图如下,
当满足发射结BE正偏,集电极BC反偏的时候,发射结就会有从基极流向发射极的电流Ib,同时集电结反向导通,形成集电极电流,经过基极流向发射极,发射极的电流就是基极电流加上集电极的电流,有如下的关系:
2.2 BJT的输入输出特性
1>输入特性曲线
注意一点:当Uce>1v时,特性曲线右移!Ube的值有所增加。
上图的输出特性为共射放大电路的输出曲线,从上图可以看出:
1>截止区:随着Ib减小到一定的值后,无论怎么增加Uce,Ic的电流都维持在一个较小的值。
2>放大区:在曲线中间的放大去,集电极电流Ic=β*Ib。
3>饱和区:在Uce一开始逐渐增加时,Ic的电流时逐渐增加的,是一段近似线性的增加。一般进入饱和区时,三极管的ce压降为0.3v左右。
2.3 共射放大电路与共基放大电路的带宽
三种放大电路中共射放大电路的带宽最窄,频率特性最差,不适合放大高频信号。产生这个问题的原因如下图所示:
1>电阻r与Cbe构成低通滤波,无法避免且没有被放大。
2>电阻r与Cbc构成低通滤波,但由于共射放大电路的接法有倍增低通效果。
图:共射放大电路的米勒效应
共基放大电路因为输入在E极,输出在C极,又因IE≈IC,所以没有电流放大能力,只有电压放大能力,即具有电流跟随的特点;输入电阻小,电压放大倍数、输出电阻与共射电路相当,高频特性好;输入与输出是同相的关系,属同相放大。
图:共基放大电路
共基极放大电路的输入电容和RE是没有构成低通滤波器的,为了验证这个问题,我做了一个仿真。
1>在射极电阻后面加了一个10u电容,R4与R3构成低通滤波,截止频率在16Hz,那么此时输入信号的幅度会被足够的衰减,那么我输出的信号幅度肯定会很小,但是下面中绿色的波形为输出波形。
经过R4与R3后确实被足够的衰减了。
3、三极管的参数
MMBT3904的参数,常用的有Ic的大小,开关参数上的ft,既要开关速度够快,电流还大的三极管比较少,满足这两个条件还能找到的型号有MMBT3904 + MMBT3906(两个对管)MMBT2222A + MMBT2907(两个对管)
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