导言
在接触一些芯片数据手册、用户手册之类的资料时,经常会看到Die这个概念,比如Flash芯片里经常会提到几个Die,访问哪个Die之类的内容,如果英语直译:死,那肯定不是这个意思。下面我们了解下几个可能会在芯片手册中看到的概念:
Wafer
晶圆(Wafer):晶圆是制作半导体电路所用的硅晶片。它的原始材料是高纯度的多晶硅,经过溶解、掺杂、拉丝等工艺制成圆柱形的单晶硅。晶圆通常有 8 英寸和 12 英寸两种规格。
Die
晶粒(Die):晶粒是从晶圆上切割下来的小块。每个晶粒都包含一个完整的芯片设计,以及芯片周围的部分划片槽区域。晶粒是半导体芯片的基本单元,封装后成为一个颗粒。晶粒上通常包含了电路、逻辑门、存储单元等功能。晶粒通常是裸露的,没有外壳或封装,因此它们非常脆弱且容易受到环境影响
每一个Die就是一个独立的功能芯片,最终将被作为一个单位而被封装起来成为我们常见的芯片。 Die是不能直接使用的,没有引脚,没有散热片。
单封,合封
● 单封:一个封装芯片中只包含一个Die
● 合封:一个封装芯片中抱恨两个或两个以上Die
合封技术相对于单封技术减少了Die之间的连接线长度,具有更小的线延迟。从时序的角度来看,output delay以及input delay减少,逻辑时序更加稳定。同时合封减少了芯片面积,成本面积都得到了大大的减小。同时合封技术对封装工艺提出了更高的要求,同时对芯片的散热提出了更高的要求。
Chip
芯片(Chip):芯片是经过封装的晶粒。封装是将晶粒放置在外壳中,以保护其内部电路,并提供连接引脚。这样,芯片就可以插入电路板或其他设备中使用。
芯片的封装通常由塑料、陶瓷或金属制成,具有引脚或焊盘,以便与其他电子元件连接。
Cell
单元(Cell):单元是比晶粒更小的结构,通常用于集成电路中。它进一步划分了晶粒,例如 IO 单元、电源管理单元等。
因此,关系是:晶圆 > 晶粒 > 单元(Cell)。
总结一下,晶圆是制作芯片的原始材料,晶粒是从晶圆上切割下来的小块,而单元则更小,通常是芯片中的功能单元。
扩展
CMOS工艺
CMOS(互补金属氧化物半导体)工艺是制造集成电路的一种常见方法,它基于硅材料,利用金属氧化物和半导体的特性来制造电子元件,主要包括晶体管。CMOS工艺中的C表示“互补”,即将NMOS器件和PMOS器件同时制作在同一硅衬底上,制作CMOS集成电路。这种工艺具有功耗低、速度快、抗干扰能力强、集成度高等众多优点。事实上,99%的IC芯片,包括大多数数字、模拟和混合信号IC,都是使用CMOS技术制造的。
其它工艺
除了 CMOS 工艺之外,还有一些其他的半导体制造工艺。以下是一些常见的工艺:
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LDMOS(低电压MOS)工艺:这是一种相对成熟的工艺,更易于与其他半导体工艺相容。它适用于高电压和低开关速度的传统CMOS器件集成¹。
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FinFET(鳍式场效应晶体管)技术:这是一种“三维晶体管”或非平面工艺,最早在UC Berkeley展示。FinFET技术具有优异的电气性能,适用于高密度集成电路¹。
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SOI(硅上绝缘体)技术:SOI技术不容易出现电流闭锁问题,因此适用于对辐射抗性要求较高的空间应用¹。
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III-V化合物半导体材料:包括镓砷化物(GaAs)、磷化铟(InP)、氮化镓(GaN)等。这些材料在一些特定应用中具有优势¹。
此外,还有一些“Beyond CMOS”技术,探索超越传统CMOS制造的新技术,例如自旋电子学、量子计算和纳米技术,这些技术有可能改变半导体行业并实现新的计算范式。