数字后端基本概念介绍<Decap Cell>

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今天要介绍的数字后端基本概念是Decap cell。 中文名,去耦单元,这是一种特殊的Filler cell。当电路中大量单元同时翻转时会导致冲放电瞬间电流增大,使得电路动态供电电压下降或地线电压升高,引起动态电压降,俗称IR-drop。为了避免IR-drop对电路性能的影响,通常在电源和地线之间放置由MOS管构成的电容,这种电容被称为去耦电容或者去耦单元,它的作用是在瞬态电流增大,电压下降时向电路补充电流以保持电源和地线之间的电压稳定,防止电源线的电压降和地线电压的升高。

使用方法

create_stdcell_fillers

需要注意的是Decap cell是带有metal层的,为了不影响工具routing resource,一般建议是最后routing全部结束后再加,加完之后再添加普通的不带metal的filler.

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### 如何在EDA工具中打开Decap Cell 在EDA设计流程中,Decoupling Capacitor (Decap) Cells 是用于降低电源网络中的电压波动的关键组件。为了正确配置和启用 Decap Cells,在 EDA 工具中通常需要指定特定的文件路径或通过命令来实现。 以下是关于如何在 EDA 工具中打开 Decap Cell 的相关内容: #### 1. 使用 `.lib` 或 `.lef` 文件定义 Decap Cell Decap Cells 需要在技术库文件(如 `.lib` 和 `.lef`)中明确定义。这些文件包含了 Decap Cell 的物理特性和电气特性描述。具体操作如下: - **LEF 文件**: LEF 文件中会包含 Decap Cell 的占位信息以及其布局属性。 - **LIB 文件**: LIB 文件则提供了 Decap Cell 的时序模型和其他电气参数。 确保在工具初始化阶段加载了正确的 LEF/LIB 文件路径[^1]。 ```tcl set lef_files [list /path/to/technology.lef] foreach lef $lef_files { read_lef $lef } ``` #### 2. 启用 Decap Placement Optimization 许多现代 PnR 工具支持自动放置 Decap Cells 的功能。这可以通过调用内置优化选项完成,例如 `PreplaceOpt`, `InplaceOpt`, 或者专门针对 Congestion/Timing 的驱动优化方法。以下是一个常见的 TCL 命令示例: ```tcl insert_decaps -number_of_decaps_per_instance 5 \ -cell_name {DECAP_CELL_NAME} \ -power_net VDD -ground_net GND ``` 上述脚本指定了每实例插入的 Decap 数量、目标电源网路 (`VDD`) 及接地网路 (`GND`)。 #### 3. 获取 Fixed Cell 列表 如果某些 Decap Cells 被标记为固定单元,则可以利用 ICC/ICC2 中的相关命令提取它们的信息。例如: ```tcl get_cells -hierarchical -filter "is_fixed == true" ``` 此命令能够筛选出所有被固定的单元列表,其中包括可能已经手动布置好的 Decap Cells[^2]。 #### 4. 设置 Decap Site Path 部分情况下还需要单独设定 Decap Sites 的路径。一般而言,这是由工艺节点决定的标准单元格位置集合。确认该路径已正确定义非常重要: ```tcl set decap_site_path "/path/to/decap/sites.def" if {[file exists $decap_site_path]} { source $decap_site_path } else { puts "Error: Decap site file not found!" } ``` 以上步骤综合起来可以帮助用户成功开启并合理分配 Decap Cells 至电路设计之中。 ---
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