pcb板制作蚀刻工艺流程分为:剥膜、线路蚀刻、剥锡(铅)下面小编就为大家详细介绍一下这三个流程:
剥膜
在pcb板生产中,只有2个step会用到剥膜。内层线路蚀刻后之D/F剥除以及外层线路蚀刻前D/F剥除(若外层制作为负片制程)。D/F的剥除制程简单,都是使用连线水平设备,使用的化学药液多为浓度重量比在1~3%NaOH或KOH。
线路蚀刻
1.蚀铜的机构
(1)铜离子在硷性环境溶液中容易形成氢氧化铜沉淀,为了防止这种沉淀现象发生,需要加入足够的氨水使产生氨铜的错离子团来抑制沉淀发生。还可以让原有多量的铜及继续溶解的铜在液中形成非常安定的错氨铜离子。像这种二价的氨铜错离子又可当成氧化剂使零价的金属铜被氧化而溶解,但在氧化还原反应过程中会有一价亚铜离子产生。
在此反应之中亚铜离子溶解度很差,需要以氨水、氨离子及空气中大量的氧辅助使其继续氧化成为可溶的二价铜离子,继而再成为蚀铜的氧化剂周而复始的继续蚀铜直到铜量太多而减慢为止。故一般蚀刻机抽风除了排除氨臭外更可供给新鲜的空气以加速蚀铜。
(2)为使上述之蚀铜反应进行更为迅速,蚀液中多加有助剂,例如:
a. 加速剂 Acceletator 可促使上述氧化反应更为快速,并防止亚铜错离子的沉淀。
b. 护岸剂(Banking agent) 减少侧蚀。
c. 压抑剂Suppressor 抑制氨在高温下的飞散,抑制铜的沉淀加速蚀铜的氧化反应。
2.设备
(1)为增加蚀速故需提高温度到48℃以上,因而会有