低压自偏置共源共栅电流镜

本文探讨了电流镜在电路设计中的应用,包括简单共源共栅电流镜和两种自偏置低压共源共栅电流镜,重点介绍了如何通过MOS管串联来抑制短沟道效应,并给出了bandgap电路中实际应用的两个实例,强调了不同MOS管参数对电流镜精度的影响。

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参考1:电流镜与偏置技术
参考2:简单共源共栅电流镜以及两种自偏置低压共源共栅电流镜

MOS管串并联

在这里插入图片描述
在设计偏置电路时,常常用两个晶体管串联来抑制短沟道效应
例如M18、22,M14、16
假设两个串联MOS管栅长相同,则可得到:在这里插入图片描述
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简单共源共栅电流镜

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两种低压自偏置共源共栅电流镜

参考:简单共源共栅电流镜以及两种自偏置低压共源共栅电流镜
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bandgap电路中自偏置电流镜应用实例

实例一

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实例二

虚线为Vb,M0,M2是两个串联的NMOS用于给M2,M34提供“Vb”的偏置
注意:将M33和M38设计得具有较大的沟长L和较大的过驱动电压,这是因为电流拷贝主要由M33和M38决定,因此较大的沟长L可以保证M33和M38输出阻抗更大,因而更少地受到漏端电压的影响,电流拷贝更为精准。而较大的过驱动电压可以保证他们受失配的影响更小。而作为减弱输出电压影响功能的M2和M34,出于面积和输出电压裕度的考虑,要求变得宽松了很多,事实上M2和M4在设计时甚至可以采用工艺允许的最小沟长。
虚线为Vb

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