第二章 晶体生长原理
1
以下对于晶体生长描述正确的是
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A.
晶体的原子最密排面表面能最低。
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B.
晶面的法向生长速度越快,就越容易留下来;反之则容易消失。
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C.
晶体生长是平衡过程。
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D.
晶体的形态取决于各个晶面的法向生长速度。
正确答案:D
2
以下对于粗糙界面和光滑界面描述正确的是
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A.
对于粗糙面,晶体生长采取二维成核或者自然台阶层状生长。
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B.
界面的相对吉布斯自由能与x无关。
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C.
x=50%是粗糙界面,x=0%或者100% 为光滑界面
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D.
晶体的生长单元比例x=NA/N,如果x>50%就是粗糙界面,x<50%就是光滑界面
正确答案:C
3
以下对于非均匀形核的描述错误的是
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A.
杂质表面的形状对于表面形核有影响,凹面促进形核
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B.
一般所有的杂质都可以充当形核的基底
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C.
当同质外延或直接从单质熔液生长单晶时,润湿角为零
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D.
降低湿润角,一般需要选择与晶核相同晶体结构,相近的点阵常数作为异质形核点
正确答案:B
4
以下对于晶体生长的方法描述错误的是
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A.
Si晶体一般采用溶液生长法
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B.
任何两相之间都有亚稳区存在,当热力学条件处于亚稳相区才有新相的产生。
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C.
金刚石一般采取固相生长法
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D.
GaN可以采取气相生长法
正确答案:A
5
晶体生长过程中,只有达到一定的过冷度时,才能自发进行熔-固相转变。
正确答案:T
6
晶体生长时,体系的自由能随着晶核半径的增加而增加。
正确答案:F
7
在体系中存在外来质点(比如尘埃、固体颗粒、籽晶等),在外来质点上成核叫做均匀成核。
正确答案:F
8
判断(1分)
硅晶体和锗晶体的晶体结构相同,均为金刚石结构。
正确答案:T