数字后端基本概念介绍<沟道宽长比>

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今天要介绍的数字后端概念是沟道宽长比。是代表着沟道宽度W与沟道长度L的比例。这也是CMOS集成电路的一个基本概念。沟道(channel)是指场效应晶体管中源区和漏区之间的一薄半导体层。是由于外加电场引起的沿长度方向的导电层。如下图所示:

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MOS管工作在非饱区时,I-V特性曲线公式近似为:

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因此,沟道宽长比对MOS管来说是非常重要的一个参数指标。宽长比越大,MOS管的 饱和电流(Idsat)就越大,性能就越好。

在数字后端中,沟道的宽长比也体现在单元库上。当沟道长度L相同时,不同的沟道宽度会造成cell的不同高度,我们通常说的7 Track, 9 Track即是代表不同的沟道宽度,沟道宽度越大,速度也越快,功耗也越大;当沟道宽度W相同时,不同的沟道长度L也会造成cell的速度不同,我们通常看到的cell名字里的C14,C16就是代表不同的沟道长度。L越小,速度也越快&#x

### MOSFET 宽长比对跨导 (gm) 的影响 对于金属氧化物半导体场效应晶体管(MOSFET),其跨导 \( g_m \) 是衡量器件增益的重要参数之一。当讨论宽长比(W/L)对跨导的影响时,可以发现两者之间存在直接关系。 在MOSFET的工作过程中,增大宽度W会增加沟道的有效面积,从而提高电流承载能力;而减小长度L则会使电场更集中于较短的距离内,增强栅极电压对沟道的控制效果[^1]。具体来说: - **宽度 W 增加**:随着MOSFET宽度的增加,在相同的偏置条件下能够支持更大的载流子流动路径数量,进而提升最大可获得的漏极电流\( I_{DS} \),最终导致更高的跨导值。 - **长度 L 减少**:缩短沟道长度有助于降低阈值附近所需的横向电场强度,并且让相同大小的栅压变化能引起更大程度上的沟道电阻改变,即提高了单位输入信号所引起的输出响应幅度——也就是所谓的跨导性能得到了加强。 综上所述,通过调整MOSFET结构中的宽长比例,可以在一定程度上优化电路设计者所需要的特定工作特性,比如高频放大器应用中往往倾向于采用较大宽长比来获取较高的跨导以实现更好的增益表现。 ```python import numpy as np import matplotlib.pyplot as plt # 设定模拟条件 widths = np.linspace(0.5, 5, num=100) * 1e-6 # 不同宽度范围(m) length = 1e-7 # 固定长度(m) # 计算不同宽度下的理论gm值(简化模型) gms = widths / length # 此处仅作示意性计算 plt.figure(figsize=(8, 6)) plt.plot(widths*1e6, gms, label=&#39;gm vs Width&#39;) plt.title(&#39;Effect of Channel Width on Transconductance gm&#39;) plt.xlabel(&#39;Channel Width ($\mu$m)&#39;) plt.ylabel(&#39;Transconductance gm (S/m)&#39;) plt.legend() plt.grid(True) plt.show() ```
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