高速SERDES串行总线中,一般会将RX与TX分层走线,并且优先保障RX。这是因为通常RX信号质量比TX信号质量更弱,因此需要规划更好的走线层。
在选择RX走线层的时候,除了需要考虑参考平面等之外,还应该考虑其换层过孔的长度与STUB,毕竟串行总线的速度越来越高,例如PCIE5.0已经达到16G。
下图为该实验PCB叠层:
元器件放在顶层,用两个PCB设计文件,一对差分走线分别放在sig1和sig2层,每个走线层情况分别提取了,有无背钻的情况。采用仿真软件提取S参数,并导入ADS做仿真。
注意:提取S参数的端口,要和导入ADS中S参数端口顺序要保持一致。
上图中在ADS中采用巴伦器件将单端信号转为差分信号,来观察差损情况。
S(21)信号在sig1层上无背钻情况。S(65)信号在sig1层上有背钻情况。
S(10,9)信号在sig2层上无背钻情况。S(14,13)信号在sig2层上有背钻情况。
在没有做背钻处理情况下,过孔留下的STUB越长信号在高频时,质量就会越差。此时信号RX信号最好走在靠近底层sig2上。下面仿真结果也能明显看出来,
在6G之前几乎重合,无论放在那层度一样,侧面说明STUB线对高频才有影响。
下图是信号在sig1层有无背钻处理情况,可以看到信号在20G以内都保持在-5dB以上。
这是信号在sig1和sig2层情况下,都做了背钻处理。可以看到在20G以内sig1层走线明显优势。
**总结:前提器件放在顶层。
- 信号在不做背钻处理情况下,走线靠近底层会留下很短的STUB线,短STUB线高速信号更有优势。
- 做背钻处理,重要信号信号尽量靠近顶层,这样就会使过孔最短,过孔带来的衰减也会最小。**