一、多层压合PCB的核心优势
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高密度布线能力
多层压合PCB通过层间互连技术实现三维布线,布线密度比双面板提升3-5倍。8层板的布线通道可达4层板的2倍,支持BGA封装器件0.4mm间距引脚设计。 -
电磁干扰抑制
采用"信号层-地平面-电源层"交替布局,辐射噪声降低12-15dB。地平面覆盖率>85%时,信号串扰减少60%。 -
短路风险控制
压合工艺使层间介质厚度误差<±5%,配合激光钻孔技术,孔壁铜厚均匀性达到±3μm,短路率降至0.02%以下。 -
紧凑结构设计
32层板的厚度可控制在3.2mm以内,相比分立式模块方案节省空间70%。手机主板采用10层HDI设计,面积缩小至5cm×5cm。 -
信号完整性保障
特性阻抗控制精度±5%,支持56Gbps高速信号传输。差分对长度匹配误差<2mil,时延抖动降低40%。 -
热管理优化
铝基板导热系数达2.2W/m·K,配合0.3mm直径散热过孔阵列,芯片结温降低18℃。
二、多层压合PCB制造全流程
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材料准备阶段
• 芯板选择:常规电路用FR-4(Tg值≥140℃),高频电路选Rogers RO4350B(介电常数3.48)
• PP预浸料:1080型号树脂含量65%,用于4-6层板;2116型号用于8层以上板
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内层图形制作
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铜箔粗化处理:表面粗糙度Ra=3-5μm增强结合力
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干膜贴覆:25μm厚度干膜,曝光能量80mJ/cm²
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酸性蚀刻:蚀刻因子>3.0,线宽公差±10%
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层压成型工艺
• 定位方式:4孔铆合定位(精度±25μm)或X射线对位(精度±15μm)
• 压合参数:
• 温度:175℃±2℃
• 压力:350psi±10%
• 时间:120分钟(含升温/保温/冷却)
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钻孔与金属化
• 激光钻孔:0.1mm微孔加工,位置精度±15μm
• 化学沉铜:孔内铜厚≥0.8μm,背光等级9级
• 电镀铜:孔壁铜厚≥25μm,均匀性>90%
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外层图形制作
• LDI曝光:5μm对位精度,支持3/3mil线宽线距
• 图形电镀:铜厚增至35μm,锡厚5-8μm
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表面处理工艺
| 工艺类型 | 厚度范围 | 适用场景 |
| ENIG | Ni 3-5μm/Au 0.05-0.1μm | 高可靠性BGA |
| 沉银 | 0.1-0.3μm | 低成本消费电子 |
| OSP | 0.2-0.5μm | 短期存储产品 |
三、关键设计规范
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层压结构设计
• 4层板推荐:Top-Gnd-Pwr-Bottom
• 6层板优化:Signal-Gnd-Signal-Pwr-Gnd-Signal
• 8层板方案:Signal-Gnd-Signal-Pwr-Gnd-Signal-Pwr-Bottom
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阻抗控制要求
• USB3.0差分对:90Ω±10%
• DDR4信号线:单端40Ω,差分80Ω
• HDMI传输线:100Ω±5%
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散热设计规范
• 热过孔阵列:0.3mm孔径,间距1.5mm
• 铜箔厚度:内层2oz,外层3oz
• 散热焊盘:直径>器件尺寸20%