EM 全称 electromigration(电迁移)它指的是:在通电导体中,由于电子的定向移动移动,会与金属线中的金属原子产生碰撞,导致金属原子移位,宏观上表现为金属线发热,变形,熔断,对于芯片中纳米级很细的导线来说,久而久之可能会使net发生短路或断路,进而造成芯片工作失效。
EM现象深刻影响着芯片寿命,因为芯片只要在使用,就会发生EM现象,使用的越久,EM所累积的效应就越多,金属变形会越来越严重 。金属线上金属原子大量流失,会导致原子流失的地方产生断路;而流失的金属原子会在金属线的其他位置堆积,导致堆积的位置导线变宽或变形,而且如果与其他导线产生接触救会形成短路。理论上来说芯片的寿命是有限的,只要工作的够久,EM总会使芯片失效。对于早期不考虑EM影响的芯片,最短的寿命可能仅仅几周;现在的芯片都会考虑EM现象,以此延长芯片使用寿命。
如何来量化EM的影响呢?对于我们后端来说,一般就会看一个指标:电流密度。我们其实就做了一个微观到宏观上的转化处理,相同材料下,电流密度越大的地方EM现象越明显。因此后端在绕线的时候必须要遵守一个EM spec,这个spec规定了不同金属层(或者说不同材料的金属)所能承载的最大电流密度。如果某一段shape仿真出来结果电流密度比spec大,就发生了EM violation,表明这个地方很有可能导致芯片寿命降低,所以这种violation也是必须要修掉的。
修EM的方式带入公式,只需要降低电阻或者降低电流就可以修复。
具体方法
1.通过进行NDR设置net宽度来降低电阻。
2.降低电流可以通过不让高翻转率的cell堆积。
3.降低一条导线上的fanout降低电流。
EM存在于芯片的所有net上,不管这段net是PG、signal、还是clock线,都必须遵守EM rule。一般会称发生在PG上的EM为PEM,Signal上的EM为SEM。对PEM violation一般都会再多加PG mesh,SEM violation的首选方法还是上NDR。