MOS管的亚阈值区

 仿真得到的region含义

 0 截止区

1 线性区(三极管区)

2 饱和区

3 亚阈值区

4 break down

Vds与Vdsat的关系

Vds > Vdsat时,region变为2,为了保证PVT下电路仍处于饱和区,需要让Vds -Vdsat大于某个经验值。

作图步骤详见https://blog.csdn.net/qq_40007892/article/details/119168956?spm=1001.2014.3001.5502

 在长沟道工艺(大约是大于4um)中,Vdsat=Vov, 过驱动电压Vov=Vgs-Vth,当Vds > Vdsat时,MOS管的沟道夹断(pinch off),电流饱和。

 但在先进工艺中,Vdsat偏离了Vov,也就是小于Vov,这是因为速度饱和效应,Vds达到Vdsat而还没有达到Vov时,电流就饱和了。此时,沟道还没有夹断。

速度饱和效应:沟道场强\frac{V_{gs}-V_{th}}{L_{eff}}足够强时,多子漂移速度为\nu =\mu\frac{V_{gs}-V_{th}}{L_{eff}},也就是速度达到饱和,为定值\nu_{sat},平方律公式变为了一次的。

使管子工作在亚阈值区的目的:

 相同电流下,亚阈值区的Vdsat小,gm小,等效输入噪声电压小,但同时W/L大,电容大。

Vgs<Vth约100mV,Vds>3VT【VT=0.026V】,是亚阈值区的饱和区,这时扩散电流为主。

参考http://bbs.eetop.cn/thread-632806-1-1.html

http://bbs.eetop.cn/thread-348516-3-1.html

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