仕兰微面试题目——电子工程师岗位

目录

第一部分:基础篇

第二部分:专业篇

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面试概述

以下是一份仕兰微面试题目——电子工程师岗位，详细介绍了数学公式、原理等，供您参考。

一、基础知识

1. 请简述CMOS电路中闩锁效应的产生过程及最后的结果。
   答：闩锁效应是指CMOS器件所固有的寄生双极晶体管被触发导通，在电源和地之间存在一个低阻通路，大电流导致电路无法正常工作，甚至烧毁电路。
2. 请解释半导体工艺中的掺杂有哪几种方式。
   答：半导体工艺中主要有两种掺杂方式：扩散和离子注入。扩散是在高温下将杂质从源材料中输送到半导体材料表面的过程；离子注入是将离子化的杂质材料打入半导体材料内部的过程。
3. 请描述下集成电路工艺中0.25um和0.18um指什么？
   答：0.25um和0.18um是指集成电路制程中的特征尺寸，即MOS晶体管