PCL 使用MLS对点云上采样

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一、方法简介

  上采样 :上采样是一种表面重建方法,当你有比你想象的要少的点云数据时,上采样可以帮你恢复原有的表面(S),通过内插你目前拥有的点云数据,这是一个复杂的猜想假设的过程。所以构建的结果不会百分之一百准确,但有时它是一种可选择的方案。所以,在你的点云云进行下采样时,一定要保存一份原始数据!

1、实现流程

  在上采样过程中,对于每一点,通过在一个有固定半径和固定步长的圆内创建点来采样它的本地平面。然后,使用拟合的多项式,计算这个位置的法线,并沿着法线增加位移。其具体过程如下:

  1. 对于每一点,设定搜索圆的半径 R R R 和搜索步长
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点云处理中,点云上采样是指通过添加额外的点来增加点云的密度。为了实现点云上采样,我们可以使用一种被称为最近邻搜索(Nearest Neighbor Search)的方法来估计新点的位置。 MLS(Moving Least Squares)是一种常用的点云上采样方法。它基于小领域内的点进行插值,并通过拟合一个局部曲面来估计插值点的位置。 具体步骤如下: 1. 选择一个点作为目标点,并确定其半径为$r$的领域。 2. 根据领域内的点进行最小二乘拟合,获得曲面(通常是一个平面)的法向量和拟合误差。 3. 将目标点的位置投影到曲面上,得到新的点位置。 4. 重复以上步骤,直到所有点都被处理。 MLS的优点在于能够保留原始点云的曲面特征,并且可以根据实际需求进行参数调整。此外,它还可以用于点云数据的平滑处理,在噪声较大的情况下有较好的效果。 然而,MLS也有一些限制。首先,它在进行最小二乘拟合时,假设曲面是局部线性的。因此,对于弯曲或高度变化较大的曲面,插值的效果可能不太理想。其次,MLS的计算复杂度较高,特别是处理大规模点云时,会消耗较多时间和计算资源。 综上所述,MLS是一种常用的点云上采样方法,通过拟合局部曲面来估计新点的位置。它能够较好地保留原始点云曲面特征,但对于弯曲或高度变化较大的面可能效果受限。此外,MLS的计算复杂度较高,需要较多时间和计算资源。

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