TSMC 12nm A72项目我们需要按照foundary的要求提前在floorplan阶段加好TCD Cell。这个cell是用来做工艺校准的。这个dummy TCD Cell也可以等后续Calibre 插dummy自动插。但咱们项目要求提前在floorplan阶段就先预先规划好位置。
TSCM12nm 1P9M的metal stack结构图如下图所示。
所以这颗TCD cell就会分成FEOL TCD和BEOL TCD两种。这个工艺相比T28nm工艺多了M0和V0,这几层都属于前段FEOL(有的地方会称他们为MEOL)。
根据foundary的要求,在一个2500um2500um 窗口内就必须要有一颗这种Dummy TCD Cell。大芯片比如芯片尺寸超过10000um10000um才需要加ICOVL这种cell。