虚幻UE 光源-烘培

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一、什么是烘培？

烘焙（Baking）：
• 本质是预计算——为了减少运行时（Runtime）的计算量，而将部分内容提前计算出来
• 最常见的烘焙内容是光照，模块叫Lightmass
• 优点：节省性能，生成GI（全局光照（Global Illumination）：是一种光线追踪技术，用于模拟场景中物体间的间接光照。可以解决传统光照模型中无法考虑到的场景照明问题，比如阴影的软化、漫射光的颜色传播、反射光的强度衰减等。）
• 两大缺点：所见非所得，静态效果

• 可烘焙内容：静态光影——漫反射，间接光，自发光，阴影（静态物体）
• 不可烘焙内容：动态光影和高光（动态物体）
• 烘焙后的光影信息叫Lightmap（光照贴图）

• Lightmass重要体积（Lightmass Importance Volume，LIV）用于标定烘焙范围（有则精细地烘焙渲染，没有也会，但是不会很精细）

• 烘焙时仅计算漫反射，反射物体需使用反射捕捉（ReflectionCapture）补充反射信息

二、烘焙实验

场景未烘焙前，只有一盏固定光源，只有直接光照。

红色板子，烘焙后墙体会有红色光影，且空间变亮，这是生成了间接光照，也就是生成了GI。

红蓝色自发光板子，板子下面有金属椅子，烘焙后墙体有红蓝色，空间会变亮，但金属上无法反射红蓝色，因为烘焙无法反射高光。

根据上面的猜想，我们按下烘焙按钮。



这里为什么不反射GI生成蓝色光影呢？

因为默认自发光他是不作为静态光源照明，所以烘焙后不会生成GI，反射间接光照。

那为什么高光要怎么反射？

可以使用反射捕捉！反射捕捉在360度生成一张鱼眼图，然后贴在材质上。由于是生成鱼眼图，所以不是实时的，也和烘焙一样，需要手动构建，不适用于动态物体。
如果一个反射捕捉影响了其他区域的反射，可以设置他的半径和他的数量，来达到反射的准确性。
光照烘焙重要体积 可以生成 体积光照贴图，会准确反射间接光照，生成GI。


小球球即是GI