J. Colloid Interf. Sci.:促进氢反应的单过渡金属修饰异质结构

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文章详细介绍了西南石油大学陈鑫团队利用密度泛函理论计算C4N/MoS2及其金属修饰催化剂在氧还原、析氧和析氢反应中的性能。研究发现Pd-C4N/MoS2和Rh-C4N/MoS2表现出优异的双功能催化活性,为绿色能源转换和存储技术提供了新的方向。
摘要由CSDN通过智能技术生成

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用于氧还原反应(ORR)、析氧反应(OER)和析氢(HER)的多功能电催化剂是开发新型绿色能源转换和存储技术的必要前提。近日,西南石油大学陈鑫等人利用密度泛函理论对原始和金属修饰的C4N/MoS2(TM-C4N/MoS2)的ORR、OER和HER催化性能进行了综合计算。


计算方法

在本文中,所有的计算均采用密度泛函理论(DFT)方法,并使用Materials Studio软件包的DMol3模块,以及使用广义梯度近似(GGA)和Perdew-Burke-Eznerhof(PBE)函数来计算交换关联势。作者使用双数值正极化(DNP)作为原子轨道基集,并且弥散值为0.005Å,以实现精确的电子收敛。此外,为了权衡计算精度和效率,作者采用了有效核心电势(ECP),并将计算过程中的能量、最大力和最大位移的收敛标准分别设置为2×10−5 Ha、0.004 Ha Å−1和0.005Å。在结构优化过程中,作者使用基于Monkhorst-Pack网格的4×4×1 k点网格对布里渊区进行采样,并且允许所有原子在没有约束的情况下保持驰豫。


结果与讨论

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图1 模型结构,能带结构和结合能


如图1a和1b所示,C4N/MoS2的优化结构包含84个原子,其中含有24个C原子、6个H原子、6种N原子、32个S原子和16个Mo原子。优化后的C4N和MoS2之间的层距离约为3.97Å。此外,作者还研究了C4N/MoS2界面的电子能带结构(图1c),可以发现,它的带隙(Eg)是直接带隙,并且Eg值为1.418eV,表明其具有半导体性质。作者通过计算原始C4N/MoS2和TM-C4N/MoS2的Eb值来评估其热力学稳定性,获得的数据如图1d所示。可以发现,所有的催化剂都具有负的Eb值,且范围从−2.27到−0.10 eV,表明这些催化剂具有热力学稳定性。

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图2 ORR和OER势能面


如图2a和2b所示,作者首先研究了原始C4N/MoS2异质结构的ORR和OER性能。对于ORR,只有第一步O2+*→ *OOH在U=0V时是能量上坡的,这意味着其需要提供额外的能量才能发生该过程。当U=1.23 V时,O2+*→*OOH和*O→*OH过程都是能量上坡的,相应的ΔG1和ΔG3值分别为1.33和0.54eV。当U=0V时,OER有三个上坡步骤,这意味着其不利于进行OER过程。此外,C4N/MoS2上的ηORR和ηOER值分别为1.33和1.38V,这严重阻碍了其ORR和OER过程。如图2c所示,对于ORR,当Pd-、Au-、Ag-、Rh-、Ni-、Cu-、Ir-和Pt-C4N/MoS2上没有任何外部电势(U=0V)时,ORR过程的每个基元步骤都可以在U=0V时自动发生,这表明了ORR过程在这些催化剂上的可行性。

然而,对于U=1.23V的情况,Pd-C4N/MoS2的第一步和第四步是能量上坡的,其分别需要0.24和0.34eV的自由能垒。此外,Pd-C4N/MoS2的PDS是最后一步(*OH→ * + H2O),相应的ΔG4值为−0.89eV。除了Ag-C4N/MoS2之外,TM-C4N/MoS2的PDS是第四步(*OH→ * + H2O)。对于OER,Ni-C4N/MoS2具有优异的OER活性,其势能面如图2d所示。

其中Ni-C4N/MoS2的PDS是第四步(*OOH→ * + O2),ΔG4值为1.57eV。此外,TM-C4N/MoS2(TM=Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Tc、Ru、Rh、Pd、Ag、Re、Os、Ir、Pt、Au)的ORR/OER过电位(η)分别为1.89/1.00、1.69/0.82、1.31/0.59、0.84/0.34、0.53/0.64、1.83/1.66、1.26/1.33、0.48/0.55、0.34/0.40、0.44/1.00、2.59/2.35、1.83/1.98、0.79/1.03、0.56/0.71、0.42/1.01 V。因此, Pd-C4N与MoS2形成异质结后,对ORR和OER具有良好的催化性能。

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图3 比例关系和相关矩阵


从图3a和3b可以看出,ΔG*OH与ΔG*OOH和ΔG*O的关系可以表示为:ΔG*OOH=0.96ΔG*OH+3.07;ΔG*O=1.75ΔG*OH+1.03,相应的线性决定系数(R2)分别为0.89和0.85。此外,ΔG*OOH也可以用ΔG*O表示:ΔG*OOH=0.50ΔG*O+2.56,且R2值高达0.88。如图3c所示,εd和ΔGspecies之间的关系相当弱,因此需要考虑εd以外的贡献,如配位数、电负性和最近邻电负性,以获得更准确的分析。从图3d中可以看出,φ与ΔG*OOH、ΔG*O和ΔG*OH的相关性良好,R2值范围为0.79~0.82。特别是,φ和ΔG*OH之间存在非常好的线性相关性,R2值高达0.82,这意味着φ可以作为描述TM-C4N/MoS2上ORR和OER催化活性的描述符。

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图4 火山曲线


为了揭示TM-C4N/MoS2对ORR/OER过程的催化活性,作者分别使用η作为(ΔG*O−ΔG*OH)和ΔG*OH的函数建立了双活性火山图,如图4a和4b所示。对于图4a中的催化剂,当ΔG*OH分别等于0.66和0.94eV时,作为最佳ORR和OER催化剂的TM-C4N/MoS2异质结构应分别具有0.29和0.29V的最佳过电位值。对于ORR,最接近火山尖的催化剂是Pd-C4N/MoS2,ΔG*OH值约为0.89eV,并具有0.34V的低ηORR值,表明它在所研究的TM-C4N/MoS2体系中具有最高的ORR催化活性。当催化剂的ΔG*OH值在0.70-1.08eV范围内时,它具有最高的ORR活性,如Pd-、Au-、Ag-、Rh-和Cu-C4N/MoS2。

总体而言,在TM-C4N/MoS2异质结构中,Pd-C4N/MoS2和Au-C4N/MoS2表现出最好的ORR催化性能。此外,随着ΔG*OH值的增加,很明显只有Ag-C4N/MoS2位于火山的右侧。大部分TM-C4N/MoS2位于火山的左侧,可以进一步推测*OH的吸附强度在TM-C4N/MoS2系统中起着重要作用。

也就是说,可以通过调节*OH的吸附强度来提高催化剂的催化性能。对于图4b中的催化剂,当(ΔG*O−ΔG*OH)分别等于1.52和1.74eV时,作为最佳ORR和OER催化剂的TM-C4N/MoS2异质结构应分别具有0.29和0.29V的过电位值。对于OER,当ΔG*OH值为1.50eV时,Ni-C4N/MoS2最接近火山顶部,具有最低的ηOER值(0.34V),是所有TM-C4N/MoS2中最具催化活性的OER催化剂。此外,Pd-C4N/MoS2表现出与IrO2(0.37V)相当的催化性能,而Rh-C4N/MoS2和Co-C4N/MoS2表现出比RuO2(0.56V)更好的催化活性。而双火山图的顶点是接近的,这意味着有可能实现高活性的双功能催化剂。

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图5 过电位和双功能催化剂活性对比


如图5所示,Pd-C4N/MoS2是所有TM-C4N/MoS2中最具潜力的双功能ORR/OER催化剂。而Rh-C4N/MoS2、Cu-C4N/MoS2和Ni-C4N/MoS2的双功能电催化活性紧随其后。此外,Pd-C4N/MoS2的双功能催化活性优于一些已报道的催化剂,具体如图5b所示。

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图6 势能面和火山曲线


从图6a中可以看出,纯C4N/MoS2表现出普通的HER活性,ΔG*H值为0.33eV,这与Pt(11 1)的HER性能(−0.09eV)相去甚远。因此,纯C4N/MoS2不是用于HER的高效催化剂。当TM-C4N/MoS2的TM原子分别为Au、Mn、Rh和Ir时,ΔG*H值分别为0.07、0.08、−0.16和−0.21 eV。其中Au-C4N/MoS2和Mn-C4N/MoS2的HER性能优于Pt(111),相应的火山图如图6b所示。

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图7 能带结构


如图7所示,Pd、Au和Ni原子的引入导致带隙减小,尤其是Pd-C4N/MoS2,其带隙减小至0.132eV。带隙的减小表明它们比纯C4N/MoS2具有更优异的导电性,从而有利于促进电子转移和电催化反应。


总结展望

Pd-C4N/MoS2具有优异的双功能催化性能,其ORR/OER过电位较低,分别为0.34/0.40 V。Rh-C4N/MoS2是具有0.48/0.55/−0.16 V的低ORR/OER/HER过电位的三功能催化剂,但其电化学稳定性需要进一步提高。

此外,本征描述符(φ)与*OH的吸附自由能之间的强相关性验证了TM-C4N/MoS2的催化活性受活性金属和周围配位环境的影响。此外,作者总结了d带中心、反应物种的吸附自由能和φ之间的相关性,其中φ是影响催化剂ORR/OER过电位的重要参数。该工作为开发高活性和多功能催化剂铺平了道路,从而使其更适用于绿色能源转换和储存技术中的多功能应用。


文献信息

Qifang Liu et.al Single transition metal-decorated C4N/MoS2 heterostructure for boosting oxygen reduction, oxygen evolution, and hydrogen evolution Journal of Colloid and Interface Science 2023

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