ALD技术产品形态

ALD技术产品形态
原子层沉积研究设备
TFS 200是适合科学研究和企业研发的最灵活的ALD平台。倍耐克 TFS 200专门设计用于多用户研究环境中把可能发生的交叉污染降至最低。 大量的可用选项和升级意味着倍耐克TFS 200将与一起成长，以满足最高要求的研究需求。
倍耐克TFS 200不仅可以在平面物体上镀膜，而且还适用于粉末，颗粒，疏松多孔的基体材料，或是有较高深宽比的复杂的三维物体。 直接和远程等离子体沉积(PEALD)可以作为TFS 200的标准选项。 离子体是工业化标准的电容性耦合等离子体(CCP)。 CCP等离子体选件可为直径达200mm，面朝上或面朝下的衬底提供直接和远程等离子体沉积ALD（PEALD）。

选件和与升级页面上找到有关Beneq TFS 200可用选项的更多信息.
适用于工业生产的薄膜系统
倍耐克P400A和P800是专为工业规模生产设计的原子层沉积系统。 它们是从研发阶段到大规模的工业化生产的理想工具。该系统具有技术可靠性以及工业应用成熟性。 该设计主要基于在严苛工业应用中连续（24/7）运行25年的丰富经验。
大多数工业客户需要专门的设备和工艺流程。
倍耐克拥有多台P400A和P800系统，以满足应用开发和薄膜研发的需求。
由此，那些正在寻找生产设备的客户可以在进行投资前，验证工艺、设备的技书性能及相关成本。
此外，还提供小规模量产的可能性，直至客户可以实现自主生产。
扩大到大批量生产和厚膜堆叠生产
与常规理解不同的是，许多原子层沉积使用的是叠层模块（>1μm）。 批次生产需要优化前躯体源材料的通入量和先进的